阴极薄层电沉积溅射靶材

从标准、单组分材料到定制混料，从小圆到多瓦片和阶梯式开发，从业务评估到超高纯度，Angstrom Sciciciciciciences 提供了最优质的磁控溅射目标材料。 我们采用特殊处理系统的混合物，例如热压、热等静压压 (HIP)、冷等静压压 (CIP)、植入真空溶解和真空抛出，以制造出符合最严格的应用基准的均匀、细粒度、高厚材料。 所有溅射目标均经过清理、检查、合成试验，并填充在非活性气体下，以便迅速用于真空框架。 纯度从商业评论（99.5%）到超高（99.9999%）不等。