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... 凭借“安格斯特罗姆优势™”（Angstrom Advantage™）以及众多其他设计特点，安格斯特罗姆科学公司（Angstrom Sciences）的环形磁控管已成为溅射行业的公认标准，这些特点在配置和工艺性能方面提供了几乎无限的可能性。 多功能、紧凑型设计 紧凑的设计使我们的环形磁控管成为任何新建或改造应用的理想选择，包括适用于最小真空室的最复杂集群组件。 全面功率兼容性 低阻抗磁控管头兼容射频（RF）、直流（DC）、中频直流、脉冲直流、HiPIMS 以及微波功率。 标准接头 我们采用 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 安格斯特罗姆科学公司（Angstrom Sciences）的线性磁控管采用了我们完全封装的、具有专利的、经过特殊设计的钕铁硼（NdFeB）稀土磁铁，这些磁铁能将磁场均匀分布于整个靶材表面，从而提高靶材利用率，并最大限度地减少来自靶材表面的颗粒污染。 此外，我们所有的磁控溅射阴极均采用湍流水流设计，以实现最佳的热传导，并最大限度地减少因靶材表面热点导致的溅射不均匀现象。这些特性，加上集成工艺气体入口、坚固的阳极壁以及尖端材料的应用，确保了您的溅射工艺拥有无与伦比的性能和可靠性。 随着越来越多的行业发现磁控溅射在速度、可控性以及经济效益方面的优势，Angstrom ...
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... 安格斯特罗姆科技（Angstrom Sciences）提供适用于几乎所有标准溅射工艺的最先进磁控管。但我们深知，每种应用都有其独特之处。正因如此，我们开发了一种独特的模块化方案，可专门根据您的具体要求进行定制。 圆柱形磁控管在玻璃镀膜行业中长期以来备受信赖，既能形成均匀的薄膜，又能最大限度地提高靶材利用率。如今，安格斯特罗姆科技公司开发了一款紧凑、轻便且经济实惠的圆柱形磁控管，专门设计用于为平板显示器、太阳能电池和卷材镀膜应用提供同样的优势。 定制设计 提供即插即用和侧装两种类型的完整组件，背管直径为 ...
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... 大功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是脉冲溅射技术领域的一项相对较新的进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，从而使大部分待溅射原子发生电离。随后可对电离流进行引导，以更好地控制涂层性能。 在 HiPIMS 工艺中，以脉冲形式向溅射靶施加高峰值电压和高电流密度，脉冲持续时间较短，频率较低，且相邻脉冲周期之间间隔较长。 脉冲持续时间通常在 50 至 200 微秒之间，频率在 500 赫兹左右，而循环间隔时间可短至几百分之一秒。 这使得占空比保持在 10% 左右，从而在保持工艺稳定性的同时将加热影响降至最低。 使用 ...
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... 安格斯特罗姆科学公司提供适用于几乎所有标准溅射工艺的最先进磁控管。但我们深知，每种应用都有其独特之处。正因如此，我们开发了一种独特的模块化方案，可专门根据您的具体要求进行定制。 更多能力 安格斯特罗姆科技（Angstrom Sciences）在内部完成磁控管的设计、工程开发、制造和测试。因此，我们能够保证最高质量，并对您的定制项目实施全面管控。 更先进的技术 安格斯特罗姆科技采用有限元分析（FEA）磁场建模技术，定制磁场分布以满足您的工艺 规范。无论您需要高沉积速率和吞吐量、高均匀性和靶材利用率，还是二者之间的完美平衡， 我们都将确保“安格斯特罗姆优势™”能为您的工艺发挥最大效益。 无限可能 无论您需要定制磁控管、安装硬件、法兰、快门组件、气体分配器，还是完整的真空 腔室，安格斯特罗姆科学公司都随时准备为您提供协助。 无论您需要定制磁控管、安装硬件、法兰、快门组件、气体分配器，还是完整的真空 全面功率兼容性 低阻抗磁控管头兼容射频（RF）、直流（DC）、中频直流、脉冲直流、HiPIMS ...
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... 在 Angstrom Sciences，我们设计、设计和制造世界上最先进、最可靠的磁控溅射阴极。我们为产品质量提供业界最长的 2 年工艺和材料保修服务。 我们还致力于确保您的磁控管在整个使用寿命期间具有最高质量的性能。因此，我们为您在 ONYX® 或其他磁控管组件上遇到的任何紧急情况或维护需求提供全面的维修和改造服务。 -源拆卸 -机械和电气损坏检查 -配合和公差检查 -更换 O 形环 -螺钉更换 -全面清洁 -磁铁检查：封装、清洁和测绘 -重新组装 -测试：真空、电气和水（提供测试表） -更换水管和电线（如有必要） ...
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... 旋转磁控管是圆形磁控管的变体，其中的磁铁组围绕中心轴进行机械旋转。这种装置最初是为半导体应用而开发的，能以尽可能小的阴极直径对固定基板进行均匀镀膜。这项技术的其他应用还包括重新沉积在靶面上的材料会在生长的薄膜中产生缺陷的情况；在旋转磁控管中，整个靶面都会被转速在 20 到 600 RPM 之间的磁铁组扫除干净。 Angstrom Sciences 提供一系列旋转磁控管，直径从 4 英寸（100 毫米）到 16 英寸（406 毫米）不等，设计有可调磁铁配置，可实现工艺优化和均匀性增强。我们的磁控管可安装在内部或外部。 旋转式磁控管可在不移动基片的情况下提供出色的均匀性。 ...
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... Angstrom Sciences 因其为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉全球。现在，我们已经开发出一种方法，可将您现有的 BOCCT / HRC / HLK、CVC、圆柱形、MRC 和任何其他 OEM 阴极改装为我们获得专利的异型磁铁设计，从而为您的工艺带来 Angstrom Advantage™。利用我们的设计和先进的建模能力，我们可以设计出性能更高的产品，提供更好的靶材利用率、更高的均匀性和更少的微粒污染。 Angstrom Sciences 致力于通过提供世界上最先进的磁控管、高质量沉积材料和全面的技术支持，帮助客户开发最具生产力和成本效益的薄膜应用。 我们随时准备确保您的满意。因此，我们为所有磁控管提供业内最长的两年保修服务。 ...
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... 间接冷却磁控管在圆形阴极的冷却水与溅射靶之间设置了一道隔墙。该隔墙形成了一道永久性的水-真空密封，可防止因靶材被“溅射穿透”而可能导致的泄漏。 Angstrom Sciences 的 1 英寸至 4 英寸（25 毫米至 100 毫米）间接冷却式圆形磁控管配备了螺纹靶材夹具和阳极护罩，可适应不同厚度的溅射靶材。凭借螺纹设计，靶材更换既快捷又简便，无需任何辅助工具或设备。 此外，螺纹靶材夹紧装置和阳极屏蔽罩共同构成了紧凑的圆形磁控管头。这使得安格斯特罗姆科学公司的圆形磁控管能够安装在空间受限的真空腔内，并且与传统磁控管相比，其溅射的基板面积更大。 间接冷却磁控管推荐用于低功率应用，是研发应用的理想选择。 ...
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... 对于需要基片长时间暴露在高热环境中的应用，Angstrom Sciences 的高温圆形磁控管采用陶瓷绝缘体和真空密封进行了优化，使阴极能够在高热条件下保持性能参数。高温设计可在 200、300 和 450 摄氏度下运行。 高温圆形磁控管专为 10-9mTorr 范围内的基本压力而设计，并经过专门设计，可在整个热循环过程中承受可能出现的变化，而不会出现泄漏或薄膜质量偏差。 ...
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... SIDABRE 开发具有平面和圆柱形几何形状的单磁控和双磁控，可作为单独的组件或部件集成到系统中。 这些设备可配备特殊功能，例如夹紧或粘合目标、直接或间接冷却以及外部或内部电源和冷却水连接。 矩形和圆柱形目标的最大可用长度为 2.0 米， 圆形目标的最大可用直径为 400 毫米。 根据特定工艺的要求，我们开发不同类型的圆柱形可旋转磁控子，在目标或磁铁上进行旋转。 我们的真空涂层系统配备了必要的手段，通过定制的解决方案来满足客户的特殊需求。 SIDRAMBE 可以为配备有或不带电源和控制系统的磁控管系统以及 ...
... 我们最大的内部安装端组，SC 可处理高达 4000 mm 的目标，额定功率高达 200 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 这种设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 SC 端块可安装在任何新的涂层机上，也可轻松替换其他旋转端块或平面系统。 特点 专利输送技术 独特的目标附件方法 耐用，使用寿命长的旋转密封件 行业标准安装盖 非专有目标设计 专利目标填水 ...
Sputtering Components
... 我们最新的产品 CMC 是 MC 的更薄版本，是我们的中型内部安装端块。 CMC 可处理高达 2500 毫米的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 CMC 端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松取代 ...
Sputtering Components
... TC 系列内部端组采用最紧凑的设计，采用独特的输电技术。 TC 可处理高达 1500 毫米的目标，额定功率为 40 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射组件的 TC 内部安装端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松地替换平面系统。 ...
Sputtering Components
... MM 是我们的中等尺寸外部安装端板。 它可以处理高达 2500 毫米（支持）的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 MM 系列外部安装端块采用与我们的 MC-系列端块相同的专利技术，在紧凑的设计中提供出色的价值、性能和可靠性 特点可 定制的驱动轴长度 紧凑且灵活的设计方 便使用的水封盒获得专利的供电技术 专利的目标注水和排水 简单的设计，减少部件的部件， 磁铁棒外部调节到任何角度 优势 比内 部端块更宽的衬底覆盖范围适合大多数腔室设计。目标更换 高包装密度；350 ...
Sputtering Components
... CM 是我们最紧凑的外部安装端组。 它可以处理高达 1000 毫米的目标，额定功率高达 20 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 CM 外部安装端组结合了高性能和可靠性，结合了非常紧凑和轻量化的设计。 特点 可定制的驱动轴长度 紧凑灵活的设计方 便使用的水封筒 专利的电力输送技术 专利的目标灌水和排水 简单的设计，减少部件 磁铁棒外部调整到任何角 度基板覆盖范围比内部端板 适合大多数腔室设计。 所有公用设施均为外部设 备，并在目标转换期间保持连接高包装密度；220 mm 空间内的双阴极（80 ...
Sputtering Components
... 我们最大的外置式端块，SM可以容纳最大4000毫米的目标（支持），其额定功率可达200千瓦直流或80千赫MFAC。 它采用与我们的内部端块相同的专利技术，以提供突出的价值、性能和可靠性，但具有更广泛的基板覆盖面和可定制的驱动轴长度。 型式。 简单的单端设计，如果需要快速更换靶子，可提供外置支持，可靠性高，易于维护；适用于125毫米内径靶。 功率(最大)：200 kW DC或MFAC。 V/A: 1500 V / 450 A 目标长度（最大）：4000毫米 维护。 可在您的日程表上和您的设施中自己动手；提供指导视频。 端块可以在连接外部公用设施时保持安装。 典型要求： - ...
Sputtering Components
... 借助 Swing CathoDetM 端块，磁铁组可以在独立于旋转目标管的可编程旋转轴中摆动，使其成为显示或 3D 零件涂层的理想系统。 Swing CathoDetM 采用与其他端块相同的专利技术，在紧凑的封装中提供出色的价值、性能和可靠性。 特点设 计用于使用客户可编程的磁铁包摆动运动涂层静态基板可 定制的驱动轴长度 紧凑灵活的外形尺寸 易于访问的水密封盒 简单的设计-更少的部件获得 专利的目标水填充/排水功能 非常适合显示器或 3D 部件涂层， 高填充密度；400 mm 空间（205 ...
Sputtering Components
... 主要 用于线性加速器的机械调谐脉冲磁控管。 频率范围 （冷却水 40 ˚） -2993 至 3002 兆赫 峰值输出功率-2.0 兆瓦 磁体-独立 输出-至 10 号（WR 284 波导）（72.14 x 34.04 毫米内部） 冷却-水 ...
e2v scientific instruments
