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... 该装置由 Angstrom 科学公司制造，是适用于溅射行业的DC/IC靶材的磁控管。 它具有紧凑的圆形设计，即使在最微小的真空室的复杂集群组件中，也可接受改装应用。 磁控管具有最小阻抗的磁头，可提供 RF、DC、中频 DC、脉冲直流和微波电源兼容性。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 随着越来越多的行业发现磁控溅射的速度、可控性和底线优势，Angstrom Sciences正在开发工具，以最大限度地提高这些更大、更快的制造工艺的产出。 更广泛的解决方案 对于那些必须对极宽的基材进行镀膜或必须实现极高的产量的人来说，线性磁控管提供了完美的解决方案。 专利优势 Angstrom Sciences的线性磁控管结合了我们的全封闭专利异型钕铁硼稀土磁铁和湍流水流，提供了无与伦比的性能。 标准配件 我们使用ISO NW标准配件，以及Conflat®金属密封法兰。所有的公用设施都保持在大气中，并通过标准的O型环压缩接头进入，以便于在任何真空系统中安装。 全面的电源兼容性 低阻抗头提供射频、直流、中频直流、脉冲直流和微波功率兼容性。 经过验证的性能 这些磁控管提供了无可比拟的性能，使Angstrom ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 圆柱形磁控管在玻璃涂层行业中非常受欢迎，因为其在薄膜中的均匀性和达到最大目标利用率。 最近，Angstrom Sciences 设计了一种新型的圆柱形磁控管，结构紧凑，重量轻，经济实惠，适用于平板显示、太阳能电池和卷材涂装应用。 获得专利的异形磁铁技术的另一个值得注意的事实是，它使沉积轮廓更接近于源和基材之间的正常状态。 这是众所周知的，以减少碎片堆积在室壁上。 Angstrom Sciences 的磁铁阵列具有更高的磁场强度，有助于实现典型的沉积速率。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... HIPIMS 溅射代表大功率脉冲磁控溅射。 这种较近期的脉冲溅射进展，利用非常高功率、短时间脉冲产生等离子体和电离大量溅射原子。 事实证明，精确控制目标表面磁场的强度对于减小电弧和优化溅射材料电离的 HIPIMS 工艺至关重要。 Angstrom Science 为其圆形和线性磁控管产品线开发了解决方案，允许磁场进行分散（虽然可互换磁铁组用于内部安装阴极）或连续（通过外部安装上的磁铁组高度调整）。 阴极）。 HIPIMS 磁控管用于在高显微组织密度的涂层沉积和薄膜沉积之前对亚直线进行预处理。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 我们最大的内部安装端组，SC 可处理高达 4000 mm 的目标，额定功率高达 200 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 这种设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 SC 端块可安装在任何新的涂层机上，也可轻松替换其他旋转端块或平面系统。 ...
Sputtering Components
... 我们最新的产品 CMC 是 MC 的更薄版本，是我们的中型内部安装端块。 CMC 可处理高达 2500 毫米的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 CMC 端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松取代 ...
Sputtering Components
... TC 系列内部端组采用最紧凑的设计，采用独特的输电技术。 TC 可处理高达 1500 毫米的目标，额定功率为 40 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射组件的 TC 内部安装端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松地替换平面系统。 ...
Sputtering Components
... MM 是我们的中等尺寸外部安装端板。 它可以处理高达 2500 毫米（支持）的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 MM 系列外部安装端块采用与我们的 MC-系列端块相同的专利技术，在紧凑的设计中提供出色的价值、性能和可靠性 特点可 定制的驱动轴长度 紧凑且灵活的设计方 便使用的水封盒获得专利的供电技术 专利的目标注水和排水 简单的设计，减少部件的部件， 磁铁棒外部调节到任何角度 优势 比内 部端块更宽的衬底覆盖范围适合大多数腔室设计。目标更换 高包装密度；350 ...
Sputtering Components
... CM 是我们最紧凑的外部安装端组。 它可以处理高达 1000 毫米的目标，额定功率高达 20 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 CM 外部安装端组结合了高性能和可靠性，结合了非常紧凑和轻量化的设计。 特点 可定制的驱动轴长度 紧凑灵活的设计方 便使用的水封筒 专利的电力输送技术 专利的目标灌水和排水 简单的设计，减少部件 磁铁棒外部调整到任何角 度基板覆盖范围比内部端板 适合大多数腔室设计。 所有公用设施均为外部设 备，并在目标转换期间保持连接高包装密度；220 ...
Sputtering Components
... 我们最大的外置式端块，SM可以容纳最大4000毫米的目标（支持），其额定功率可达200千瓦直流或80千赫MFAC。 它采用与我们的内部端块相同的专利技术，以提供突出的价值、性能和可靠性，但具有更广泛的基板覆盖面和可定制的驱动轴长度。 型式。 简单的单端设计，如果需要快速更换靶子，可提供外置支持，可靠性高，易于维护；适用于125毫米内径靶。 功率(最大)：200 kW DC或MFAC。 V/A: 1500 V / 450 A 目标长度（最大）：4000毫米 维护。 可在您的日程表上和您的设施中自己动手；提供指导视频。 端块可以在连接外部公用设施时保持安装。 典型要求： - ...
Sputtering Components
... 借助 Swing CathoDetM 端块，磁铁组可以在独立于旋转目标管的可编程旋转轴中摆动，使其成为显示或 3D 零件涂层的理想系统。 Swing CathoDetM 采用与其他端块相同的专利技术，在紧凑的封装中提供出色的价值、性能和可靠性。 特点设 计用于使用客户可编程的磁铁包摆动运动涂层静态基板可 定制的驱动轴长度 紧凑灵活的外形尺寸 易于访问的水密封盒 简单的设计-更少的部件获得 专利的目标水填充/排水功能 非常适合显示器或 3D 部件涂层， 高填充密度；400 ...
Sputtering Components
... SIDABRE 开发具有平面和圆柱形几何形状的单磁控和双磁控，可作为单独的组件或部件集成到系统中。 这些设备可配备特殊功能，例如夹紧或粘合目标、直接或间接冷却以及外部或内部电源和冷却水连接。 矩形和圆柱形目标的最大可用长度为 2.0 米， 圆形目标的最大可用直径为 400 毫米。 根据特定工艺的要求，我们开发不同类型的圆柱形可旋转磁控子，在目标或磁铁上进行旋转。 我们的真空涂层系统配备了必要的手段，通过定制的解决方案来满足客户的特殊需求。 SIDRAMBE ...
... 主要 用于线性加速器的机械调谐脉冲磁控管。 频率范围 （冷却水 40 ˚） -2993 至 3002 兆赫 峰值输出功率-2.0 兆瓦 磁体-独立 输出-至 10 号（WR 284 波导）（72.14 x 34.04 毫米内部） 冷却-水 ...
e2v scientific instruments/美国Teledyne
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