圆形磁电管

... 凭借“安格斯特罗姆优势™”（Angstrom Advantage™）以及众多其他设计特点，安格斯特罗姆科学公司（Angstrom Sciences）的环形磁控管已成为溅射行业的公认标准，这些特点在配置和工艺性能方面提供了几乎无限的可能性。 多功能、紧凑型设计 紧凑的设计使我们的环形磁控管成为任何新建或改造应用的理想选择，包括适用于最小真空室的最复杂集群组件。 全面功率兼容性 低阻抗磁控管头兼容射频（RF）、直流（DC）、中频直流、脉冲直流、HiPIMS 以及微波功率。 标准接头 我们采用 ...

... 大功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是脉冲溅射技术领域的一项相对较新的进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，从而使大部分待溅射原子发生电离。随后可对电离流进行引导，以更好地控制涂层性能。 在 HiPIMS 工艺中，以脉冲形式向溅射靶施加高峰值电压和高电流密度，脉冲持续时间较短，频率较低，且相邻脉冲周期之间间隔较长。 脉冲持续时间通常在 50 至 200 微秒之间，频率在 500 赫兹左右，而循环间隔时间可短至几百分之一秒。 这使得占空比保持在 10% 左右，从而在保持工艺稳定性的同时将加热影响降至最低。 使用 ...

... 旋转磁控管是圆形磁控管的变体，其中的磁铁组围绕中心轴进行机械旋转。这种装置最初是为半导体应用而开发的，能以尽可能小的阴极直径对固定基板进行均匀镀膜。这项技术的其他应用还包括重新沉积在靶面上的材料会在生长的薄膜中产生缺陷的情况；在旋转磁控管中，整个靶面都会被转速在 20 到 600 RPM 之间的磁铁组扫除干净。 Angstrom Sciences 提供一系列旋转磁控管，直径从 4 英寸（100 毫米）到 16 英寸（406 毫米）不等，设计有可调磁铁配置，可实现工艺优化和均匀性增强。我们的磁控管可安装在内部或外部。 旋转式磁控管可在不移动基片的情况下提供出色的均匀性。 ...

... 间接冷却磁控管在圆形阴极的冷却水与溅射靶之间设置了一道隔墙。该隔墙形成了一道永久性的水-真空密封，可防止因靶材被“溅射穿透”而可能导致的泄漏。 Angstrom Sciences 的 1 英寸至 4 英寸（25 毫米至 100 毫米）间接冷却式圆形磁控管配备了螺纹靶材夹具和阳极护罩，可适应不同厚度的溅射靶材。凭借螺纹设计，靶材更换既快捷又简便，无需任何辅助工具或设备。 此外，螺纹靶材夹紧装置和阳极屏蔽罩共同构成了紧凑的圆形磁控管头。这使得安格斯特罗姆科学公司的圆形磁控管能够安装在空间受限的真空腔内，并且与传统磁控管相比，其溅射的基板面积更大。 间接冷却磁控管推荐用于低功率应用，是研发应用的理想选择。 ...

... 对于需要基片长时间暴露在高热环境中的应用，Angstrom Sciences 的高温圆形磁控管采用陶瓷绝缘体和真空密封进行了优化，使阴极能够在高热条件下保持性能参数。高温设计可在 200、300 和 450 摄氏度下运行。 高温圆形磁控管专为 10-9mTorr 范围内的基本压力而设计，并经过专门设计，可在整个热循环过程中承受可能出现的变化，而不会出现泄漏或薄膜质量偏差。 ...

... 高功率射频磁控溅射阴极可成功应用于研发和生产，前提是在结构上采用特定的设计标准。 圆形高功率射频磁控管可直接冷却，外径为 2 英寸-8 英寸。 由于射频功率在高频率下运行，因此磁控溅射阴极的设计必须能够控制该功率。Angstrom Sciences 的高功率射频磁控管设计用于在目标表面均匀传输射频能量，同时提供低反射功率和射频限制。 高功率射频磁控管有圆形和线性两种配置。 ...