圆形磁电管

... Angstrom Sciences 的圆形磁控管已被公认为溅射行业的标准，因为它具有 Angstrom Advantage™ 和许多其他设计特点，在配置和工艺性能方面几乎提供了无限的可能性。 其紧凑的设计使我们的圆磁控管成为任何新应用或改装应用的理想选择，包括用于最小真空室的最复杂的簇组件。 低阻抗磁头兼容射频、直流、中频直流、脉冲直流、HiPIMS 和微波功率。 我们使用 ISO NW 标准接头以及 Conflat® 金属密封法兰。所有公用设施均保持在大气压下，并通过标准 O 型环压缩接头接入，便于在任何真空系统中安装。 圆形磁控管源的目标直径从 ...

... 高功率脉冲磁控溅射或 HiPIMS 是脉冲溅射技术的最新进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，使大部分溅射原子电离。电离后的通量可以被引导，从而增强对涂层特性的控制。 Angstrom Sciences 已经开发出一系列溅射阴极，能够承受超过 1500 瓦特/平方英寸的极端功率密度，适用于连续长时间的生产应用。Angstrom Sciences 的高脉冲功率脉冲磁控溅射阴极在阳极体和安装法兰中加入了额外的冷却通道，与我们获得专利的湍流目标冷却一起，在工艺操作过程中保持最佳的冷却效果。 其他特点包括被动和主动磁体阵列，可在靶材寿命期间保持靶材表面的场强一致，这对 ...

... 旋转磁控管是圆形磁控管的变体，其中的磁铁组围绕中心轴进行机械旋转。这种装置最初是为半导体应用而开发的，能以尽可能小的阴极直径对固定基板进行均匀镀膜。这项技术的其他应用还包括重新沉积在靶面上的材料会在生长的薄膜中产生缺陷的情况；在旋转磁控管中，整个靶面都会被转速在 20 到 600 RPM 之间的磁铁组扫除干净。 Angstrom Sciences 提供一系列旋转磁控管，直径从 4 英寸（100 毫米）到 16 英寸（406 毫米）不等，设计有可调磁铁配置，可实现工艺优化和均匀性增强。我们的磁控管可安装在内部或外部。 旋转式磁控管可在不移动基片的情况下提供出色的均匀性。 ...

... 间接冷却磁控管在圆形阴极冷却水和溅射靶之间有一个中间壁。这种中间壁可形成永久性的水-真空密封，防止靶材被 "溅射穿 "而发生泄漏。 Angstrom Sciences 的 1 英寸至 4 英寸（25 毫米至 100 毫米）间接冷却式圆形磁控管采用螺纹式靶夹和阳极屏蔽，可调节以适应不同厚度的溅射靶。螺纹设计上的靶件更换快捷方便，无需辅助工具或装置。 此外，螺纹式靶夹和阳极罩还能形成一个紧凑的圆形磁控管头。这样，Angstrom Sciences 的圆形磁控管就可以安装在狭小的真空室中，与传统磁控管相比，它可以溅射更大表面积的基片。 间接冷却磁控管推荐用于低功率应用，是研究和开发应用的理想选择。 有关间接冷却磁控管的更多信息，请致电 ...

... 对于需要基片长时间暴露在高热环境中的应用，Angstrom Sciences 的高温圆形磁控管采用陶瓷绝缘体和真空密封进行了优化，使阴极能够在高热条件下保持性能参数。高温设计可在 200、300 和 450 摄氏度下运行。 高温圆形磁控管专为 10-9mTorr 范围内的基本压力而设计，并经过专门设计，可在整个热循环过程中承受可能出现的变化，而不会出现泄漏或薄膜质量偏差。 ...

... 高功率射频磁控溅射阴极可成功应用于研发和生产，前提是在结构上采用特定的设计标准。 圆形高功率射频磁控管可直接冷却，外径为 2 英寸-8 英寸。 由于射频功率在高频率下运行，因此磁控溅射阴极的设计必须能够控制该功率。Angstrom Sciences 的高功率射频磁控管设计用于在目标表面均匀传输射频能量，同时提供低反射功率和射频限制。 高功率射频磁控管有圆形和线性两种配置。 ...