脉冲磁电管 HiPIMS

圆柱圆形

大功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是脉冲溅射技术领域的一项相对较新的进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，从而使大部分待溅射原子发生电离。随后可对电离流进行引导，以更好地控制涂层性能。 在 HiPIMS 工艺中，以脉冲形式向溅射靶施加高峰值电压和高电流密度，脉冲持续时间较短，频率较低，且相邻脉冲周期之间间隔较长。 脉冲持续时间通常在 50 至 200 微秒之间，频率在 500 赫兹左右，而循环间隔时间可短至几百分之一秒。 这使得占空比保持在 10% 左右，从而在保持工艺稳定性的同时将加热影响降至最低。 使用 HiPIMS 技术改变所得薄膜的形态和结构具有多项优势。密度、硬度、表面形貌、折射率和附着力等性能均可通过 HiPIMS 工艺进行调整和增强。 Angstrom Sciences 已开发出一系列溅射阴极，能够承受这些极高的功率密度，以满足连续长时间生产应用的需求。除了我们获得专利的湍流靶材冷却技术外，Angstrom Sciences 的高功率脉冲磁控溅射阴极还在阳极本体和安装法兰中集成了额外的冷却通道，以确保在工艺运行期间保持最佳冷却效果。