脉冲磁电管 HiPIMS

HIPIMS 溅射代表大功率脉冲磁控溅射。 这种较近期的脉冲溅射进展，利用非常高功率、短时间脉冲产生等离子体和电离大量溅射原子。 事实证明，精确控制目标表面磁场的强度对于减小电弧和优化溅射材料电离的 HIPIMS 工艺至关重要。 Angstrom Science 为其圆形和线性磁控管产品线开发了解决方案，允许磁场进行分散（虽然可互换磁铁组用于内部安装阴极）或连续（通过外部安装上的磁铁组高度调整）。 阴极）。 HIPIMS 磁控管用于在高显微组织密度的涂层沉积和薄膜沉积之前对亚直线进行预处理。