紧凑型处理器控制器 Plasus

过程流量控制器是高速闭环过程气体控制器，设计用于对基于反应溅射的真空镀膜和等离子处理过程进行实时、现场精确控制。它们是完整、紧凑、灵活、使用方便且经济的解决方案，可随时集成到新系统和现有系统中。无论是生产还是研发工具，工艺流程控制器都能明显改善工艺的稳定性、可重复性和产量。可提供多种附件，包括专为 HIPMS 溅射应用设计的传感器。 在工业等离子应用中，过程控制对于确保过程的可靠性和高质量至关重要。在这种情况下，光学发射光谱 (OES) 是一种首选技术，因为它不会影响等离子体，而且可以对多种等离子体进行实时监控。我们的 ...SUS EMICON 系统具备分析、优化和控制等离子应用所需的所有功能。 ...SUS 是光谱等离子体监测系统的领先制造商。公司成立于 20 年前，核心竞争力是为工业和研发应用开发交钥匙过程控制系统。我们的系统可用于等离子体监测、过程控制、过程优化、质量控制和光谱等离子体分析。 我们将以多年的经验和领先的行业知识为您提供服务，并为您的应用提供全面的建议！