阴极薄层电沉积溅射靶材

PVD 或物理气相沉积材料包括一系列可用于制造薄膜涂层的材料。Angstrom Sciences 提供全面的高纯度真空沉积材料，如上图所示。 影响物理气相沉积 (PVD) 所沉积薄膜的质量和功能的因素有三个：沉积源的质量和性能、沉积材料的特性和结构、沉积系统及其相关外围设备的内在性能和布局。 Angsstrom Sciences 有能力并知道如何控制这三个主要因素中的两个。 从任何尺寸的溅射靶材到用于热蒸发/电子束蒸发的材料，Angstrom Sciences 都有能力为任何应用推荐和指导最合适的材料。 在这些工艺中，并非所有材料都是等同的，因为源材料的化学成分只是一个强大的、针对特定应用的工艺的起点。 杂质含量、晶粒大小、晶体结构/纹理只是独特定制合适沉积结构的几个考虑因素。 我们采用热压、冷压、热等静压 (HIP)、冷等静压 (CIP)、真空感应熔炼 (VIM) 和真空电弧铸造等各种专业加工技术，生产出符合最严格应用标准的均匀、细粒度、高密度材料。 我们提供的所有 PVD 材料都具有 NIST 可追溯成分和杂质分析。