退火炉 VF-5100

扩散氧化橱柜式

这种大批量、扩散式、LPCVD、立式炉可进行4-8英寸晶圆的超高温处理。该系统可以灵活地配置，使您的生产线能够处理各种产品。该炉在功率器件制造方面表现出色。 特点 可为各种生产线提供灵活的设备配置 可选择50到150个晶圆的批量尺寸 可提供4至8英寸的晶圆尺寸 4到8个盒式库存 使用LGO加热器进行从低温到中高温范围的出色温度控制 使用单片/五片晶圆处理机器人进行高速晶圆传输 配备了便于操作的高性能控制系统 这种用于4-8英寸晶圆的立式炉可以灵活地满足您的生产线需求。您可以从50到150个晶圆中选择要加工的晶圆数量。您可以从LGO加热器、二硅化钼（MoSi2）加热器和碳加热器中选择加热器，因此该炉不仅可以用于低温退火、氮化物（Si3N4）、多晶硅（poly Si）和其他材料的LPCVD、氧化和扩散加工，还可以用于SiC功率器件门硅的氧化氮化、活化退火和其他超高温加工。