热处理炉 VF-5900

氧化橱柜式电动

该炉是用于硅片、IGBT、聚酰亚胺和薄片氧化、扩散和CVD的热处理系统。作为我们的旗舰型号，该炉配备了一个大容量的储存器，并具有较短的周期时间。 特点 大批量，最多可以批量处理100片硅片 最多16个FOUP库存 通过使用LGO加热器实现从低温到中高温范围内的出色温度控制 通过使用单片/五片晶圆处理机器人实现高速晶圆传输 配有操作简便的高性能控制系统 这种大批量大规模生产型立式扩散炉每批最多可以处理100片硅片（300毫米/12英寸）或16个FOUP。采用LGO加热器，具有从低温到中高温的优异温度特性。除了硅片之外，该炉还适用于IGBT、聚酰亚胺、薄片和其他材料的热处理。