退火炉 RLA-4106-V

室式真空

真空加载锁定能力提高了产量。 支持各种晶圆，包括硅、GaN和SiC。 特点 真空锁定功能作为标准配置配备在腔体和传输单元上，以实现高产量。 包括一个用于SiC和GaN晶圆的自动感应器转移功能。 卤素灯安装在上层和下层交叉处。 6个区的控制允许轻松控制每个区的功率比。 使用辐射温度计对工件温度进行非接触测量，并可进行反馈控制。 这是使用排列在上下交叉处的多个卤素灯作为热源的生产设备，用于快速、高精度的硅片退火。使用新开发的真空运输平台，可以在超低的氧气环境下进行工件运输和处理。