传送带炉 VF-3000

橱柜式氧化气氛受控

这种配备自动传送带的低价立式炉可用于从研发到大规模生产4至8英寸晶圆的一系列功能。我们已经实现了如此低的价格，后端用户可以引进这种炉子。可进行超高温处理，最适合于功率器件的制造。 特点 为后端用户提供低成本的设备 小批量，50到75个晶圆的处理，可用于研发到大规模生产的生产线。 可提供4至8英寸的晶圆尺寸 最多可以有4个盒式库存 使用LGO加热器实现从低温到中高温范围的出色温度控制 使用单个晶圆处理机器人进行高速晶圆传输 配备有限功能的简单控制系统 这种炉子可以用于4英寸到8英寸的广泛的晶圆尺寸，可以选择50-75片的迷你批次的晶圆加工。通过对硬件和控制系统内容的精心选择，实现了低价，这种立式炉可以用于从研发到大规模生产线的广泛功能。从LGO加热器、二硅化钼（MoSi2）加热器和碳加热器中选择并使用合适的加热器，不仅可用于低温退火、氮化（Si3N4）、多晶硅（poly Si）和其他材料的LPCVD、氧化和扩散，还可用于SiC功率器件门硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理工艺。