这种用于实验和研究(R&D)的小型生产型立式炉可以实现高质量的加工。这种炉子结构紧凑,只需要很小的安装面积,但可用于各种直径的晶圆,并表现出与大规模生产炉相同的温度特性。
特点
用于研发的高性能加工
小批量,最大25个晶圆的批量加工
可提供2-8英寸和300-mm的晶圆尺寸
配备LGO加热器,实现与大规模生产设备相同的高温性能
配备有限功能的简单控制系统
这种用于实验、研究(R&D)和小批量生产的立式炉可用于2-到8英寸和300-mm的各种晶圆尺寸,小批量的尺寸也可以从25片晶圆中选择。由于加热器可以从LGO加热器和其他各种加热器中选择,因此可以用与大规模生产炉相同的炉口结构和加热器性能进行工艺开发。这种炉子可用于各种硅片处理(LPCVD、氧化和扩散),用于功率器件(Si和SiC)开发的硅门氧化氮化和活化退火,以及其他广泛的工艺。
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