热处理炉 VF-5700

氧化橱柜式电动

这个热处理系统可以进行硅片、IGBT、聚酰亚胺和薄片的氧化、扩散和CVD。由于其高度小于3000毫米，该模型可以很容易地被引进。它的特点是周期短，产量高。 特点 小型批量，灵活的25到50个晶圆的批量处理 使用大功率加热器的高产能，加热时间快 配有便于操作的高性能控制系统 尺寸紧凑，不需要储存器 这种周期短、产量高的立式扩散炉以每个25-50片的小批量方式加工300毫米（12英寸）晶圆。由于消除了储存器的空间，其高度小于3000毫米，因此易于引进。有很多情况下，引进的炉子没有储存器，所以可以减少储存器的相关费用。由于采用了LGO加热器，该炉在从低温到中高温的广泛范围内表现出卓越的温度特性。除了硅片之外，它还适用于IGBT、聚酰亚胺、薄片和其他材料的热处理。