退火炉 VFS-4000

扩散熟化橱柜式

这种用于4.5G/5.5G的大口径立式炉是利用半导体制造设备技术开发的，用于玻璃基板制造。该炉子适用于低压制的有机EL（OLED/AMOLED）熔块密封工艺和脱水。 特点 半导体扩散炉已被改造成更大的规模，用于平板显示器。 可以进行常压加工和减压加工 各种各样的气体环境（氧化、还原、中性、腐蚀等）。 最大基板尺寸：1300 × 1500毫米 大型LGO加热器具有优良的温度特性 这种大口径立式炉采用了严格的温度特性控制、气氛控制和粒子控制，是半导体制造的专业技术，适用于FPD。石英舟被用来创造一个低颗粒、无金属的环境，以便在10ppm或更低的O2浓度下进行真空热处理。这种炉子适用于触摸屏和其他材料的接触退火、后烘烤和活化退火。