DI2800 采用散射强度模拟技术优化照明和检测光学器件,能够对制造过程中产生的图案化晶片缺陷进行高灵敏度检测。它在镜面晶片上的检测灵敏度为 0.1 微米标准粒度。因此,它甚至可以检测物联网和汽车领域半导体设备中使用的 0.3 毫米见方的超小型芯片,通过优化检测顺序,缺陷检测速度可达每小时 40 多张 200 毫米晶圆片。
- 采用日立独创的暗场检测方法进行缺陷检测
- 可用于过程监控(制造过程监控)和筛选(非缺陷器件选择)
- 支持 φ100mm、φ150mm、φ200mm 有图案/无图案晶片
检测灵敏度 - 检测标准粒度
0.1 μm
处理能力 - 每小时至少处理 40 个晶片
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