概述基于晶圆检测系统提供的信息,用于NG影像的详细分析、分析数据存储以及与主机PC的通信设备。
用途用于半导体器件/CMOS器件制造工艺中的缺陷管理。
系统描述系统拍摄缺陷图像并将数据上传至上游系统。缺陷坐标和元数据由Wafer Review System和Wafer Inspection System(AVI)提供。系统也会分析来自AVI的缺陷信息。Seiwa SAWR Series以高速高精度检查应用。AVI亦可按需制造。
规格- 适用晶圆尺寸:12英寸 / 8英寸
- 工作状态:晶圆切割(dicing)
- 台阶定位精度:± 1 µm
- 复核精度:3σ ≤ ± 20 µm(缺陷信息坐标的定位精度)
- 产能:约2000秒(10片处理)— 参考成像模式;视缺陷位置而定
- 复核时间(移动到AF并成像):最快0.5秒 — 视缺陷位置而定
技术规格- 适用晶圆尺寸:12英寸 / 8英寸
- 工作状态:晶圆切割(dicing)
- 台阶定位精度:± 1 µm
- 复核精度:3σ ≤ ± 20 µm
- 产能:约2000秒(10片处理)
- 考虑的缺陷数量:每片100个
- 复核时间(移动到AF并成像):最快0.5秒