大型基板用光刻机

全自动用于生产

概述
本系统为高精细玻璃曝光设计，集成了针对微细图形曝光优化的UV光学系统以及实现光罩与基板高精度平行化的机构。支持真空接触、软接触和近距间隙（proximity gap）等全自动曝光模式。根据掩膜尺寸提供垂直与水平两种配置：垂直型适用于大型掩膜（G5及以上），水平型适用于G4.5或更小的掩膜。

用途
适用于FPD（平板显示）、TP（触控面板）和CF（单元制造）等生产线的玻璃处理。

规格

• 可用基板尺寸：G4.5 - G8.5
• 对准精度：±1 μm
• 曝光模式：真空接触、软接触、近距间隙

主要特性

• 为高精细曝光优化的UV光学系统
• 实现光罩与基板高精度平行化的机构
• 具备可选择曝光模式的全自动操作
• 配置：垂直（建议用于G5及以上）和水平（建议用于G4.5或更小）
• 为工业FPD/TP/CF产线的集成设计