光敏树脂显影剂 OPD 262

Overview FUJIFILM Electronic Materials 提供一系列 TMAH 基础的显影液，适用于正、负光刻胶系统。产品有即用型（RTU）和浓缩型，可满足浸没式及在线轨道显影的半导体制造需求。

Product Lineup

• 即用型（RTU）产品
  • 不含表面活性剂的显影液（TMAH 2.38 wt%）
  • 含表面活性剂的显影液（TMAH 2.38 wt%）
• 浓缩产品
  • TMAH 24.9% 浓缩液（需客户稀释）
  • 含表面活性剂的 10% TMAH 浓缩液（预配以便稀释）
• 型号示例
  • OPD 262 — 无表面活性剂的显影液
  • OPD 4262 — 含广泛适配表面活性剂的显影液
  • OPD 4280 — 含广泛适配表面活性剂的显影液
  • WNRD — 负性光刻胶显影剂

Features & Benefits

• 多种纯度等级，可提供用于先进半导体与 EUV 应用的超高纯度选项
• RTU 与浓缩两种规格，支持现场稀释和标准生产流程
• 兼容浸没式与在线轨道显影系统
• 可根据光刻胶和工艺需求选择有/无表面活性剂
• 为大规模制造提供散装与浓缩供货方案

Packaging & Delivery

• 1000 L IBC（一次性或可回收）
• 200 L 桶（一次性或可回收）
• 散装交付（视地区而定）
• 4 x 4 L 瓶装

Technical Specifications

• 化学基础：TMAH（四甲基氢氧化铵）
• 产品类型：RTU（例如 TMAH 2.38 wt%）与浓缩（例如 24.9% TMAH；10% TMAH 含表面活性剂）
• 应用：正负光刻胶系统；浸没与在线轨道显影；兼容 EUV
• 表面活性剂：可提供有/无选项
• 纯度等级：从标准到超高纯度
• 供货选项：浓缩、散装、桶装、IBC、小包装瓶

Ordering & Support

• 为大批量客户提供定制包装和稀释支持
• 关于样品、技术资料和合规文件，请联系 FUJIFILM Electronic Materials