半导体树脂 i-Line

光敏

用途广泛的光刻胶系列，适用于多种工艺流程，从0.30µm到>1.0µm的分辨率。 特点与优势 适用于多种工艺流程，包括在多种衬底上实现0.30µm以下到>1.0µm的分辨率，光刻胶的容许厚度范围大。 产品概要 用于非反射性衬底的高级i-Line光刻胶，光刻胶系列设计用于在非反射性衬底上进行要求严格的关键尺寸（350纳米CD）图案提供了快速选择方案： OiR 674 系列 GiR 1102 系列 GiR 2201 系列 多用途高分辨率i-Line光刻胶系列，为高产量、高分辨率（>500纳米CD）和稳健的图案化提供快速选项： GIR 2700 系列 OiR 305 系列 OiR 906 系列 OiR 907 系列 多用途交叉g-Line和i-Line光刻胶系列，为g-Line和i-Line和宽带（>800 nm CD）提供有效的解决方案： HiPR 6500 系列 HPR 512 用于高反射衬底的光刻胶系列，具备抗漂白、高光密度和关键尺寸的控制能力： OiR 906HD OiR 305HC HiPR 6517GH 适用于较厚应用的i-Line光刻胶系列，适用于3至11µm 薄膜厚度的厚膜图形化： FHi-560EP 系列 FHi-570 OiR 305 OiR 908