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光敏
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用于半导体
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光敏
产品介绍
正负e-Beam光刻胶产品系列,适用于多种电子束微显影应用 特点与优势 高分辨率 工艺窗口广 产品概要 FEP 系列 FEP系列产品适用于电子束曝光正显影成像的多种应用。 FEN 系列 FEN 系列产品适用于电子束曝光的负显影成像的多种应用。
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该卖家将出席以下展会
ELECTRONICA 2026
10-13 11月 2026
Munich (德国)
展会 B1 - 展台 516
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