光敏树脂 ArF

用于半导体

概述
用于正性干式与浸没成像，以及负性显影（NTI）的材料。面向193 nm高分辨率曝光工艺，提供适用于干法和浸没法的多种产品选项。

产品系列

• GAR Series：适用于需要193 nm干式曝光的各类应用的产品。
• FAiRS Series for PTI (positive tone imaging)：适用于193 nm浸没曝光并进行正性成像的FAiRS产品。
• FAiRS Series for NTI (negative tone imaging)：适用于193 nm浸没曝光并进行负性成像的FAiRS产品。

特性与优势

• 高通量
• 优异分辨率
• 宽工艺窗口
• 低缺陷率
• 垂直侧壁轮廓控制

特性 / 技术参数

• 波长: 193 nm
• 成像模式: 正性干式、浸没（PTI）、负性成像（NTI）
• 产品系列: GAR Series（干式）、FAiRS Series（PTI 与 NTI）
• 为高分辨率成像设计，具有宽工艺窗口与低缺陷率