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光敏树脂 ArF用于半导体
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产品规格型号
- 用途
- 用于半导体
- 技术特性
- 光敏
产品介绍
特点与优势
用于 193 nm 曝光的多种高分辨率微显影产品，包括干法和浸润式微影以及负显影
• 高产量
• 高分辨率
• 工艺窗口广
• 低缺陷水平
• 垂直剖面形貌
产品概要
• GAR 系列
GAR 系列产品适用于需要 193nm干式曝光微显影的多种应用
• PTD FAiR 系列
FAiR 系列产品适用于需要 193nm 浸润式曝光和正显影的多种应用
• NTD FAiR 系列
FAiR 系列产品适用于需要 193nm 浸润式曝光和负显影的广泛应用
