光敏树脂 ArF

用于半导体

用于正片干式成像、浸入式成像和负色调成像（NTI）的材料 特点和优势 用于 193 纳米曝光的各种高分辨率成像系统，包括正片干式成像、浸入式成像和负色调成像 (NTI) - 高产能 - 卓越的分辨率 - 宽工艺窗口 - 低缺陷水平 - 垂直剖面 - GAR 系列 GAR 系列产品适用于需要 193nm 干曝光的各种应用。 - 用于 PTI（正色调成像）的 FAiRS 系列 FAiRS 系列产品适用于需要 193nm 浸透曝光和正色成像的各种应用。 - 用于 NTI（负色调成像）的 FAiRS 系列 FAiRS 系列产品适用于需要 193nm 浸透曝光和负色调成像的各种应用。