清洁溶剂 RER series
用于电子元件

清洁溶剂 - RER series - Fujifilm NDT Systems - 用于电子元件
清洁溶剂 - RER series - Fujifilm NDT Systems - 用于电子元件
清洁溶剂 - RER series - Fujifilm NDT Systems - 用于电子元件 - 图像 - 2
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产品规格型号

用途
清洁
应用
用于电子元件

产品介绍

概述
用于光刻胶洗边(Edge Bead Removal,EBR)、返工、冲洗和预润湿应用的一系列特种溶剂混合物。Fujifilm 提供适用于严苛光刻要求的超高纯度溶剂和定制配方,以控制颗粒、微量金属与有机污染物。

产品系列
  • 醇类与酮类
    • 甲醇
    • 丙酮
    • MEK
    • 乙醇
    • IPA
    • MIBC
    • MIBK
    • 环戊酮
    • 环己酮
  • 醋酸酯、内酯与醚类
    • PGME
    • PGMEA
    • GBL
    • EL
    • nBA
  • EUV 溶剂与定制混配
    • EUV 专用溶剂及客户定制配方(请咨询您的 Fujifilm 客户经理)


特点与优势
  • 超高纯度等级以减少缺陷和污染
  • EUV 优化溶剂可改善图形化控制并降低光刻胶膨胀
  • 支持定制工艺与配方
  • 采用先进分析测试以确保产品纯度和一致性
  • 在美国、欧洲和亚洲实现区域化生产与包装
  • 包装选项:
    • 1–4L 玻璃瓶
    • NOWPak
    • 桶装:不锈钢、PFA、HDPE
    • IBC:不锈钢、PFA、HDPE
    • ISOtainer


技术规格
  • 品牌:Fujifilm
  • 产品名称 / 系列:NTI Developers
  • 适用场景:光刻胶洗边(EBR)、返工、冲洗、光刻前预润湿等应用
  • 可用化学类别:醇类、酮类、醋酸酯、内酯、醚类、EUV 专用溶剂
  • 代表化学物质:甲醇、丙酮、MEK、乙醇、IPA、MIBC、MIBK、环戊酮、环己酮、PGME、PGMEA、GBL、EL、nBA
  • 纯度/质量:超高纯度等级;产品符合颗粒、微量金属和有机污染物的全球标准
  • 定制化:可提供定制溶剂混合物和工艺支持
  • 生产与包装:区域化生产(美国、欧洲、亚洲);包装选项包括玻璃瓶(1–4 L)、NOWPak、桶装(不锈钢、PFA、HDPE)、IBC(不锈钢、PFA、HDPE)、ISOtainer
  • 分析保证:使用先进的分析工具验证纯度和质量
  • 商标注记:NOWPak 是 Entegris, Inc. 在美国和/或其他国家的商标或注册商标

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。