半导体工业坩埚

热解氮化硼

热解氮化硼陶瓷是一种高性能陶瓷材料，主要由热解氮化硼粉末制成。其主要特点包括出色的高温稳定性，能够在极高温度下保持结构完整，以及优越的电绝缘性能，适用于电子和电气应用。此外，它还具备良好的化学稳定性，对多种化学物质都具有抵抗力。热解氮化硼陶瓷在高温工业加工、半导体制造、电子封装、航空航天等多个领域得到广泛应用，用于隔热、耐腐蚀、电绝缘和高温环境中的零部件制造。 由于CVD工艺的性质，PBN零件通常要求壁厚不超过3mm。 对于纯度极高的氮化硼来说，PBN也是一个不错的选择。 99.99% 是典型等级。 CVD 工艺使这种热解氮化硼具有近乎完美的层状结构，从而产生各向异性的导热性，使其成为制造晶体生长坩埚的理想材料。 热解氮化硼陶瓷应用： 晶体生长（VGF、LEC 坩埚） 分子束外延(MBE)坩埚 MOCVD加热器 PBN红外窗口 行波管 (TWT) (PBN 支撑杆) PBN涂层石墨 高温、真空设备绝缘子 热解氮化硼陶瓷特性： PBN的颜色为象牙色和橙棕色，无毒、无孔、易加工。 纯度高达99.99%，表面致密，阻气性能好。 强度随温度升高而增加，在2200℃时达到峰值。 耐酸、碱、盐、有机试剂。 同时，它不与大多数熔融金属和半导体材料发生反应。 优异的抗热震性、优异的导热性、低热膨胀系数。 高电阻、高介电强度、低介电常数、低损耗因数、优良的微波、红外线能力。 它在力学、热学和电学方面具有各向异性。