晶圆计量系统 Echo™

用于半导体

皮秒超声技术，或称PULSE™技术，是金属薄膜计量的行业标准。Echo™系统是Onto Innovation声学计量产品系列的最新成员，旨在扩大在多个前沿设备领域的领先地位。 产品概述 Echo系统是一个全面的在线金属薄膜计量工具，用于前沿逻辑、存储器、先进封装和特种半导体器件的单层和多层金属薄膜测量。创新的光学设计在单一平台上将薄膜厚度测量的动态范围从50Å扩展到35µm，并可扩展到测量高纵横比的先进3D NAND结构。专家应用系统（EASy™）软件为开发用户定义的算法提供了灵活性，以便对复杂的多层堆栈进行建模。Echo系统还扩展了PULSE技术系统的材料表征能力。除了BEOL中低k介电膜的杨氏模量和3D NAND中的非晶碳硬掩膜外，Echo系统还包括用于植入物监测和热导率表征的最新电子和算法。小光斑尺寸与快速测量相结合，实现了对0.5毫米边缘的全晶圆测绘能力，提高了工艺开发和优化过程中的信息周转和信息质量。 规格 - 使用飞秒超快激光进行在线光声测量 - 小光斑尺寸（8x10µm）可在15µm的位置进行测量 - 金属薄膜的典型厚度为50Å至35µm - 高达60w/h的吞吐量