晶圆计量系统 IMPULSE V

用于半导体

由行业领先的光学和机器学习解决方案提供支持的综合计量平台，为CMP、沉积、蚀刻和平板印刷应用结合了高灵敏度和高产量。 产品概述 IMPULSE V系统 随着晶圆到晶圆和晶圆内的均匀性公差越来越严格，集成计量系统在各种半导体加工步骤中得到了应用。基于已证实的高分辨率光学技术，IMPULSE V系统在CMP过程中为薄膜残留物测量提供了更高的灵敏度。IMPULSE平台拥有业界最可靠的硬件，具有一流的可靠性和生产力指标。下一代IMPULSE V系统以更高的产量扩展了这种可靠性，与更高的采样、片内/片上和晶圆边缘测量的需求保持同步。先进的光学系统和专门设计的测量室大大改善了信噪比（SNR），实现了比上一代集成计量系统的精度提高2倍以上。板载机器学习使用额外的信噪比来完成这个强大的软件包，实现了更快的解决问题的时间，并缩小了现有工具集以前无法测量的层的差距。 IMPULSE V系统和Atlas V系统为半导体工厂提供了全面的薄膜和光学关键尺寸测量解决方案，通过无缝交换配方和数据实现信息反馈，提高产量。