晶圆计量系统 IMPULSE+

由行业领先的光学和机器学习解决方案提供支持的综合计量平台，为CMP、沉积、蚀刻和平板印刷应用结合了高灵敏度和高产量。 作为一个综合计量标准，IMPULSE+系统对CMP工艺偏移提供了最大的灵敏度和准确性，使设备制造商能够建立具有高精度反馈的APC控制解决方案。有了OCD解决方案软件，可以在设备和活动区域内进行直接测量，用户能够监测微小的工艺偏移，并优化他们的工艺以提高产量。 IMPULSE+系统与Atlas和OCD软件分析解决方案结合使用，实现了跨模块的工艺优化和全厂范围的综合工艺控制。IMPULSE+系统在DRAM、3D-NAND、CMOS图像传感器和代工/逻辑器件制造的关键步骤中被广泛采用。