厚度测量干涉仪 interferoMETER 5420-TH

光学白光高解析度

IMS5420-TH 白光干涉仪为单晶硅片的工业厚度测量开辟了新的前景。IMS5420-TH 采用宽带超发光二极管 (SLED)，可用于测量未掺杂、掺杂和高掺杂的单晶硅片。厚度测量范围从 0.05 毫米到 1.05 毫米。可测量的气隙厚度甚至可达 4 毫米。 在半导体生产中，高精度是必不可少的。一个重要的工艺步骤是研磨坯料，从而使其达到均匀的厚度。为了持续控制厚度，我们开发了干涉仪 IMS5420 系列白光干涉仪。 这些干涉仪均由一个紧凑型传感器和一个控制器组成，安装在坚固的工业级外壳中。控制器中集成的主动温度控制确保了测量的高稳定性。 干涉仪既可作为厚度测量系统，也可作为多峰值厚度测量系统。多峰值厚度测量系统可测量多达五层的厚度，例如 >50 µm 的晶片厚度、气隙、薄膜和涂层。对于在恶劣环境条件下的厚度测量，IMS5420IP67 控制器具有 IP67 防护等级和不锈钢外壳，以及配套的光纤和传感器。