扫描电子场发射显微镜 HEM6000

实验室用于材料分析用于半导体

用于大体积试样跨尺度成像的高速扫描电子显微镜 CIQTEK HEM6000 采用高亮度大束流电子枪、高速电子束偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸入式电磁和静电组合物镜等技术，可在确保纳米级分辨率的同时实现高速图像采集。 自动化操作流程专为更高效、更智能的大面积高分辨率成像工作流程等应用而设计。成像速度比传统的场发射扫描电子显微镜（fesem）快 5 倍以上。 1.图像采集速度：10 ns/像素，2*100 M 像素/秒 2.分辨率：1.3 nm@3 kV，SE；1.5 nm@1 kV，SE，0.9 nm@30 kV，STEM 3.加速电压：0.1 kV~6 kV（减速模式），6 kV~30 kV（非减速模式） 4.视场角：最大 1*1 mm2，高分辨率最小失真 64*64 um2 5.平台重复性：X ±0.6 um，Y ±0.3 um 6.信号电子滤波系统：SE/BSE 无信号切换，混合比例可调 7.全静电高速光束偏转系统：最大可实现高分辨率大视场成像。视场高达 32um*32 um，每像素 4 nm 8.样品台减速技术：降低入射电子着陆电压，提高信号电子捕获效率 9.电磁和静电组合沉浸物镜光束偏转系统：物镜磁场沉浸样品，实现低像差高分辨率成像