半导体测量系统

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角向测量系统
角向测量系统

... 它主要用于测量液体与固体的接触角,即液体与固体的润湿性。它还可以测量作为外相的液体的接触角。该仪器可以测量各种液体对各种材料的接触角。在手机制造、玻璃制造、表面处理、材料研究、化学工程、半导体制造、涂料油墨、电子电路、纺织纤维、医学生物等领域,接触角测量已成为评估表面性质的重要仪器。 ...

视频测量系统
视频测量系统
NEXIV VMZ-S series

为各种场合提供以高产量为核心的快速、准确的检测。 VMZ-S系列提供3大类机型,以及一系列高质量的光学器件,标配有TTL(通过镜头的)扫描激光器。高速度和高精度相结合,可以更快地完成测量任务。 VMZ-S系列具有高精度和高速测量功能,可满足日益增长的复杂需求,也可进行广泛应用。 6种光学变焦系统 该系统从零开始设计,利用专门设计的尼康光学系统提供高精度测量。 高速高度测量 高精度、高速高度测量通过高精度透镜激光自动对焦实现,能够以每秒1000点的速度进行高速扫描。 测量困难样本的能力 利用尼康独家的照明配件,可以轻松测量难测的边缘和特征。 不间断自动测量 即使部件定位发生变化,也可以实现精确测量。

临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
Spector

天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统,适用产品包括但不限于COG和PSM。 针对掩模来料测量,天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布,同时系统提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300m的特征尺寸,3sigma 重复性通常在纳米范围内。 主要特点 •MaskCD •最大支持14寸掩模以及定制形状 •可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光 •SECS/GEM •长期维护成本低,喼定可靠

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TZTEK Technology Co.,ltd
临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
MT270UV

天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统,适用产品包括但不限于COG和PSM。 针对掩模来料测量,天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布,同时系统提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300m的特征尺寸,3sigma 重复性通常在纳米范围内。 主要特点 •MaskCD测 •最大支持6寸掩模 •可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光 •SECS/GEM •长期维护成本低,喼定可靠

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临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
MT2010VIS/UV

天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统,适用产品包括但不限于COG和PSM。 针对掩模来料测量,天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布,同时系统提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300m的特征尺寸,3sigma 重复性通常在纳米范围内。 主要特点 •MaskÆ厚,CD测 •可配置可见光、紫外光、红外光 •SECS/GEM •长期维护成本低,喼定可靠

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临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
IRIS

天准半导体红外测量系统在全球处于头部地位。系统将高性能红外相机与设计优化的红外光学结合,提供具备出色分辨率和对比度的图像,实现基板的顶部、底部和内部结构的有效测量 主要特点 •设计优化的整套红外光学系统,红外波长最高支持1500 •支持定制适用于不同产品的自动化搬运方案 •可见光和红外光组合,反射光和透射光组合 •SECS/GEM

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临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
MT3000VIS/IR

天准半导体红外测量系统在全球处于头部地位。系统将高性能红外相机与设计优化的红外光学结合,提供具备出色分辨率和对比度的图像,实现基板的顶部、底部和内部结构的有效测量 主要特点 •支持定制适用于不同产品的自动化搬运方案 •可见光和红外光组合,反射光和透射光组合 •SECS/GEM •长期维护成本低,喼定可靠

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临界尺寸测量系统
临界尺寸测量系统
MT2010VIS/IR

天准半导体红外测量系统在全球处于头部地位。系统将高性能红外相机与设计优化的红外光学结合,提供具备出色分辨率和对比度的图像,实现基板的顶部、底部和内部结构的有效测量 主要特点 •全自动测 •可见光和红外光组合,反射光和透射光组合 •SECS/GEM •长期维护成本低,喼定可靠

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX

... 霍尔效应测量系统用于测量什么? 霍尔效应测量系统用于测量霍尔元件的散装载流子浓度、片状载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、磁阻等。 霍尔效应测量系统的工作原理: 霍尔效应是指在导体上产生的电位差(霍尔电压),该电位差与导体中的电流和垂直于电流的外加磁场成反比。霍尔效应由埃德温-霍尔于 1879 年发现。 霍尔效应的本质:当固体材料中的载流子在外加磁场中运动时,由于洛伦兹力的作用,运动轨迹发生偏移,材料两侧发生电荷积累,形成垂直于电流方向的电场;最后,载流子的洛伦兹力与电场斥力相平衡,从而在两侧形成稳定的电位差,即霍尔电压。 霍尔效应测量系统的可测试材料: 半导体材料:SiGe、SiC、InAs、InGaAs、InP、AlGaAs、HgCdTe ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-100

... DX-100 霍尔效应测量设备由电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源、高精度电压表、霍尔效应样品支架、标准样品和系统软件组成。 DX-100 霍尔效应测量设备用于测量载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数。这些参数是了解半导体材料电特性的必要条件,因此霍尔测量设备是了解和研究半导体器件和半导体材料电特性的必要工具。 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-70

... DX-70 霍尔测量系统用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率和霍尔系数等重要参数。要了解半导体材料的电气特性,必须事先控制这些参数。因此,霍尔效应测试系统是了解和研究半导体器件和半导体材料电气特性的重要工具。 DX-70 霍尔效应测量系统由电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源、高精度电压表、矩阵卡、霍尔效应样品支架、标准样品和系统软件组成。 该 HMS 系统测试采用最新的 KEITHLEY 进口测试源表,结合配套的低延迟、高带宽矩阵卡,大大提高了样品电源电流和测试样品霍尔电压的量程和精度。宽电流电源和宽电压测试范围可覆盖市场上绝大多数半导体器件。 实验结果由软件自动计算,可同时获得块状载流子浓度、片状载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数和磁阻等参数。 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-50

... DX-50 霍尔效应测量系统是了解和研究半导体器件和半导体材料电气特性的必要工具。 霍尔测量系统由电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源、高精度电压表、霍尔效应样品支架、标准样品和系统软件组成。 霍尔效应系统用于测量载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数。这些参数对于了解半导体材料的电气特性十分必要。 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-30

... DX-30 永磁霍尔效应计由永磁体、高精度恒流源、高精度电压表、霍尔效应样品支架、标准样品、高精度高斯计和系统软件组成。 DX-30 永磁霍尔效应计 用于测量载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数。这些参数是了解半导体材料电特性的必要条件,因此霍尔效应测试系统是了解和研究半导体器件和半导体材料电特性的必要工具。 我们可以为教学和研究提供各种霍尔效应测试系统; 是中国最大的高精度霍尔器件制造商; 技术支持:技术支持:中国科学院半导体研究所(霍尔效应研究 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-3000

... DX-3000 霍尔效应装置是一种全自动测试系统,集霍尔效应、磁阻和 IV 特性测试于一体。 该霍尔效应仪考虑到了一些用户经常忽略的问题,如仪器配置、电路布线(包括常温布线和低温布线)等,选用吉时利电气测量仪器。 磁场可根据用户要求采用电磁铁或液氦超导磁体,配备智能测量样品棒,再加上专用的全自动测试软件,让用户可以快速、方便地测量样品,获得准确可靠的数据。此外,还有多种低温选项,并可根据用户现有仪器和软件的特殊要求进行改造。DX3000 系列霍尔效应测量系统是研究材料电迁移特性的有力工具。 DX-3000 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-1000L

... DX-1000L 低温霍尔效应测试系统由电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源和高精度电压表、霍尔效应样品支架、标准样品、高低温杜瓦、温度控制器和系统软件组成。 DX-1000L 低温霍尔效应测试系统用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率和霍尔系数等重要参数。要了解半导体材料的电气特性,必须事先控制这些参数。因此,霍尔效应测试系统是了解和研究半导体器件以及半导体材料电气特性的重要工具。 实验结果由软件自动计算,可同时获得块状载流子浓度、片状载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数和磁阻等参数。 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-1000H

... DX-1000H 高温霍尔测量装置由电磁铁、真空泵、高温真空室、高斯计、恒流源、电磁铁电流源、温度控制器、计算机和软件组成。 DX-1000H 高温霍尔测量装置的工作原理 - 电磁电流源为电磁铁提供电流以产生磁场; - 高斯计测量电磁铁产生的均匀磁场值; - 恒流源一方面为样品提供霍尔效应测试电流,另一方面用于测量样品反馈的霍尔电压; - 将待测试样品置于高温真空室中,用高温胶固定,作为四个测试点; - 从高温真空室引出 4 根导线,其中两根连接到温度控制器,用于温度测量和控制,另一根是高温探头的引线,连接到高斯计,另一根是霍尔样品连接线,连接到恒流源; ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-60

... DX-60 霍尔效应测量仪由电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源、高精度电压表、霍尔效应样品架、标准样品和系统软件组成。 DX-60 霍尔器件测量仪可测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率和霍尔系数等重要参数。要了解半导体材料的电气特性,必须事先控制这些参数。因此,霍尔效应测试系统是了解和研究半导体器件和半导体材料电特性所必需的工具。 通过该软件,可以自动计算体载流子浓度、表面载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、磁阻等实验结果。 ...

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霍尔效应测量系统
霍尔效应测量系统
DX-1000T

... 该仪器系统包括:电磁铁、电磁铁电源、高精度恒流源、高精度电压表、高斯计、霍尔效应样品支架、标准样品、高低温杜瓦、温度控制器和系统软件。 可测试材料: - 半导体材料:SiGe、SiC、InAs、InGaAs、InP、AlGaAs、HgCdTe 和铁氧体材料等; - 低阻抗材料:石墨烯、金属、透明氧化物、弱磁半导体材料、TMR 材料等; - 高阻抗材料:半绝缘砷化镓、氮化镓、碲化镉等。 技术指标 - 磁场:10mm 间距为 2T,30mm 间距为 ...

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晶圆用测量系统
晶圆用测量系统
SUMMIT200

... 新的Cascade SUMMIT200先进的200mm探针系统,对于收集单片或批量晶圆上的高精度测量数据至关重要;尽可能快。 SUMMIT200探针站设计用于研发、设备表征/建模或利基生产应用,可对超低噪声、直流、射频、毫米波和太赫兹应用进行精确的温度电气测量,具有半自动和现在的全自动操作,可在最快时间内获得准确数据。 新一代探针系统支持PureLine™技术,以实现市场上最低的噪音水平之一。获得专利的AttoGuard®和MicroChamber®技术大大改善了低泄漏和低电容测量。一个新的先进的200毫米快速平台,处理多达50个晶圆的盒,高产量的测试功能,以及-60°C至300°C的宽温度范围,为科学家、研发和测试工程师或生产操作员提供了快速完成工作所需的一切。 SUMMIT200探针台支持Contact ...

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FORMFACTOR
温度测量系统
温度测量系统
IMS-K-SiPh

... 带有Keysight光电技术应用的全面、交钥匙的综合测量系统(IMS)。 套装硬件和软件 FormFactor和合作伙伴Keysight的应用专家将帮助你配置一个强大的、完整的解决方案,包括。 - FormFactor探头系统。CM300xi, SUMMIT200, MPS150 (其他可选) - 手动、半自动和全自动的探针站选项 - FormFactor分析探头。手动或电动定位器上的射频和直流探头 - FormFactor集成单面、双面或三面HexNano光学定位器 - ...

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温度测量系统
温度测量系统
IMS-K-Power

... 采用Keysight PDA的全面、交钥匙集成测量系统(IMS)。 用于片上研发功率半导体器件特性化测量 FormFactor和合作伙伴Keysight的应用专家将帮助你配置一个强大、完整的解决方案,包括。 - FormFactor探针系统。TESLA300, TESLA200, T200, EPS150TESLA (其他可选) - 手动、半自动和全自动的探针站选项 - FormFactor分析探头:高电压探头、高电流探头、高功率探头 - T.I.P.S. "LuPo ...

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FORMFACTOR
3D测量系统
3D测量系统
PM300

... PM300分析探针台是手动半导体故障分析和在制品测试的行业基准。无论您的应用是什么,这种多功能探针系统的卓越机械性能提供了一个稳定和精确的系统设置。 PM300可作为开放式或屏蔽式系统PM300PS。 PM300PS手动分析探针系统为器件特性和建模、工艺开发、晶圆级可靠性、故障分析和三维IC工程测试创造了一个没有电磁(EMI)和射频干扰(RFI)的测量环境。 ...

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晶圆用测量系统
晶圆用测量系统
TESLA300

... TESLA300先进的晶圆上功率半导体探针系统是一个集成的高功率测试解决方案,能够收集精确的高压和大电流测量数据,最高可达3kV(三轴)/10kV(同轴)和200A(标准)/600A(大电流),并具有完全的操作安全性。 TESLA300提供了实验室自动化功能,并能为设备特性、大批量工程和极富挑战性的应用进行大功率电测量。它也非常适合于定制解决方案、利基生产应用和新兴市场。 TESLA300内置的AttoGuard专利技术大大改善了低漏电和低电容测量。结合FormFactor的专利TESLA ...

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