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半导体工业坩埚
陶瓷用于熔融金属转移高温应用

半导体工业坩埚 - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - 陶瓷 / 用于熔融金属转移 / 高温应用
半导体工业坩埚 - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - 陶瓷 / 用于熔融金属转移 / 高温应用
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产品规格型号

技术参数
陶瓷, 氧化铝, 高温应用, 用于熔融金属转移, 半导体工业

产品介绍

产品概述
氧化铝坩埚(Al2O3 ≥99%)为致密的黄色陶瓷容器,专为高温工业工艺设计。具有优异的耐热性、机械强度和抗热震性能,适用于烧结、材料处理及熔融金属的盛装与处理。该坩埚在氧化/还原气氛下化学稳定,并具备良好的电气绝缘性。

主要特性
  • Al2O3 含量 ≥99%,具有高耐火性
  • 优异的耐热性,在高温下保持强度
  • 高机械强度与刚性
  • 良好的热传导性与出色的耐热震性
  • 在高温下对熔融金属及腐蚀性介质具有化学与耐蚀性
  • 在氧化和还原气氛中均表现稳定
  • 高温条件下良好的电气绝缘性


应用
  • 压电、介电及其他电子陶瓷元件材料的加工
  • 正极材料加工
  • PZT 材料的烧结与处理
  • 发光材料的合成与烧制
  • 熔融金属的盛装与处理(铸造、保温)
  • NAS 槽体及高温储存应用


主要技术数据
Al2O3: ≥99%
颜色: 黄色
比重: 3.9 g/cm³
硬度: 15 GPa
弹性模量: 55000 N
抗压强度: 2082 MPa
抗弯强度: 326 MPa
抗拉强度: 131 MPa (20℃)
断裂韧性: 5.42 MPa·m1/2
泊松比: 0.18

技术规格
  • 材料组成: Al2O3 ≥99%
  • 颜色: 黄色
  • 比重: 3.9 g/cm³
  • 硬度: 15 GPa
  • 弹性模量: 55000 N
  • 抗压强度: 2082 MPa
  • 抗弯强度: 326 MPa
  • 抗拉强度: 131 MPa (20℃ 测量)
  • 断裂韧性: 5.42 MPa·m1/2
  • 泊松比: 0.18
  • 性能: 优异的耐热性、耐热震性、对熔融金属及化学品的耐腐蚀性、在氧化/还原气氛中的稳定性、高温下良好的电气绝缘性

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。