热压六方氮化硼通常被称为 "白石墨",因为它具有与石墨相似的层状结构。它具有出色的热特性:高热导率和优异的抗热震性。它在还原气氛中的稳定性可达 2000 °C,在氧化气氛中的稳定性可达 900 °C。它还具有可加工性强、热膨胀率低、微波透明度高以及对熔融金属、炉渣和玻璃的耐湿性强等特点。氮化硼陶瓷部件被广泛用作 PVD、MOCVD、MBE 系统、熔炉部件、熔化坩埚、绝缘体、垫圈、喷嘴、微波管、散热器和热辐射屏蔽。
MOCVD 反应器是一种由不会与所用化学品发生反应的材料制成的腔体。它还必须能承受高温。反应室由反应器壁、内衬、感光器、气体注入装置和温度控制装置组成。
在 MOCVD 反应器中,基底由基座支撑,基座也是一个感热体。基座/感热体是反应室热能的主要来源。只有感热体被加热,因此气体在到达热晶片表面之前不会发生反应。然而,冷壁反应器中的反应室壁可能会被热基座/受体辐射的热量间接加热,但温度仍低于基座/受体和基座/受体支撑的基底。因此,氮化硼是一个不错的选择,因为使用氮化硼作为绝缘体可以大大提高加热元件的功率密度、工作温度、绝缘等级和介电强度。
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