氮化铝(AlN)是一种先进的技术陶瓷材料,具有极高的热导率(高达 230 W/m.K)和出色的电绝缘性能。
这使得氮化铝(AlN)陶瓷基板广泛应用于电力电子和微电子领域。例如,它在半导体中用作电路载体(基板),在 LED 照明技术或大功率电子产品中用作散热器。
氮化铝(AlN)陶瓷基板的优点
-高导热率(170-230W/mK),是氧化铝陶瓷基板的 9.5 倍。
-热膨胀系数与硅(Si)、氮化镓(GaN)和砷化镓(GaAs)半导体相似。这有助于实现硅(Si)芯片的高可靠性和热循环。
-电绝缘性高,介电常数小。
-机械强度高(450MPa)。
-对熔融金属的抗腐蚀性更强。
-纯度极高,无毒。
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