光学检查机 Archer™

带图案晶圆用于电子工业裂纹

Archer™ 800 套刻量测系统可对产品套刻误差提供准确反馈，有助于快速技术提升和稳定生产先进存储和逻辑芯片。具有纳米级分辨率的波长可调和每层优化，可对与创新图形化技术（包括 EUV 光刻）相关的套刻误差进行准确而可靠的分析。Archer 800 基于成像的套刻系统，其产能水平可满足不断变化的市场需求，支持光刻机高阶校正所需的高采样率，并实现在线监控的高生产量。先进算法和新型 rAIM® 套刻标记设计可改善标记和器件套刻误差之间的相关性，帮助光刻工程师准确跟踪器件套刻性能。 主要应用 产品在线套刻控制，在线监控，光刻机认证，图案控制 Archer 750 基于成像技术的套刻量测系统，采用波长可调光源，可对≤7nm 逻辑和先进存储器设计节点进行准确、强工艺稳健性、高产能的套刻误差测量。 Archer 600 是一种基于成像的套刻测量系统，适用于先进存储器和≤10纳米逻辑器件。 Archer 500LCM 是一种双成像和散射测量的套刻测量模块，适用于2X纳米/1X纳米设计节点的多个工艺层。 Archer 500 是一种基于成像的套刻测量系统，适用于2X纳米/1X纳米设计节点。 ATL™ 基于散射技术的套刻量测系统，适用于先进逻辑和存储器设计节点。 Archer™ Power 多功能套刻和 CD 量测系统，用于功率、逻辑和存储、LED、光电、RF、MEMS 和其他特种器件的研发和量产。