真空金属镀膜系统 / 真空 CAP

塑料薄膜

概览
LEYBOLD OPTICS CAP series 是一套用于薄膜的卷对卷真空薄膜金属化设备，适用于绕卷式电容器和柔性电子器件的高质量金属化处理。标准涂层宽度为 500 至 900 mm。

主要优点

• 一机多用：支持从标准到高端的应用、厚膜与薄膜、平面或分段结构、单层或多层堆叠，以及多种层型与表面电阻。
• 有效的热管理：Leybold Optics SuperBias 技术可对敏感薄聚合物基材进行受控冷却，提升产能与良率。
• 在线质量保障：DISS 技术实时监控并控制膜层轮廓与未金属化边缘宽度，减少报废并确保稳定质量。

突出特点

• 自动化未金属化边缘蒸发器：油蒸发器在机向产生并控制未金属化边缘，根据边缘面积、卷绕速度和层厚以闭环方式自动调节油量。
• 原位层控制：横向与纵向控制同步调节送丝速度与卷绕速度，保证膜宽与膜长方向的均匀膜厚。
• 先进铝蒸发源：可沉积约 1 Ω/cm² 至 150 Ω/cm² 的铝层；单体源高度可调且布局灵活以优化均匀性，并支持多源叠层使用。

其他功能与选项

• 图案印刷系统（可选）：抽屉式单元包含油蒸发器、网纹辊与柔印辊（含护套），护套结构精度可达 0.1 mm，用于分段轮廓与高精度印刷。
• 材料与工艺的高度兼容性：支持铝、铝/锌、银/锌、重边涂层，以及平面、斜坡等多种膜层剖面。
• 典型应用：绕卷式电容器薄膜金属化、柔性电子、电动出行、智能电网、可再生能源、建筑与电力传输部件等。

服务与文档
布勒提供与工艺集成相关的服务、培训与技术文档；LEYBOLD OPTICS CAP series 的产品手册与技术资料可供下载或索取。

特征 / 技术规格

• 涂覆工艺：卷对卷真空薄膜金属化（蒸镀）
• 标准涂层宽度：500 mm 至 900 mm
• 铝膜沉积范围：约 1 Ω/cm² 至 150 Ω/cm²
• 热管理技术：Leybold Optics SuperBias（基材冷却）
• 在线质量控制：DISS 技术用于实时监测膜层轮廓与未金属化边宽
• 自动未金属化边缘蒸发器：闭环油量控制（基于边缘面积、卷绕速度与膜厚）
• 层控制：横向与纵向控制（送丝与卷绕速度同步）
• 可选图案印刷：油蒸发器 + 网纹辊 + 柔印辊与护套（0.1 mm）
• 支持涂层材料：Al、Al/Zn、Ag/Zn 及多层堆栈