磁电管溅镀机 DEIMOS 5500

镜子

概述
DEIMOS 5500 是一款用于精密光学的真空镀膜设备，基于磁控溅射工艺，专为在大型曲面天文镜上沉积铝或银的保护层/增反射层而设计，以实现高反射率、良好均匀性和耐久性。

主要优点

• 镀膜均匀 — 每个靶位的倾角与靶‑基材距离可电动调节，以适配曲面基材，形成均匀的 Al/Ag 保护或增反射层。
• 快速基材处理 — 腔室下半部分位于轨道上可移出机架，实现全面访问并加快基材更换。
• 电源模式灵活 — 四个溅射靶位可选直流脉冲或直流电源以满足工艺要求。

突出特点

• 可动阴极倾斜 — 每个靶位可移动并倾斜；电动驱动保证可重复定位，设置可保存为生产配方。
• 中频或直流辉光放电预清洗 — 腔室内集成的放电单元用于受控清洁与脱湿，清洗循环可保存为配方。
• 便于维护的结构 — 下腔室在轨道上，便于访问靶材、基材及工艺组件，针对最大直径4.5 m 的基材优化，简化运行与维护。

应用
用于天文镜及其它大型精密光学镜面的铝或银保护/增反射镀膜，适用于对反射率、均匀性和耐久性有严格要求的场合。

特性 / 规格（技术规格）

• 型号：DEIMOS 5500
• 工艺：磁控溅射真空镀膜（精密光学真空镀膜机）
• 镀膜材料：铝（Al）和银（Ag） — 保护层与增反射层
• 靶位数量：4
• 电源选项：直流脉冲或直流溅射电源
• 靶位调节：每个靶位的倾斜角和与基材的距离可电动调节；设置可保存为生产配方
• 预清洗：腔室内集成 MF 或 DC 辉光放电单元用于清洁与脱湿；循环可存为配方
• 基材处理：腔室下半部分在轨道上便于全面访问与快速更换
• 支持最大基材直径：可处理直径最多 4.5 m 的基材
• 设计用途：针对对反射率、均匀性与耐久性有要求的天文镜与精密光学镜面
• 运行与维护：便于访问靶材、基材及工艺组件，支持配方化重复性