防反光真空镀膜机 DLC 600

防反光真空镀膜机 - DLC 600 - Bühler Group
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产品规格型号

技术参数
防反光

产品介绍

概述
LEYBOLD OPTICS DLC 600 是一款精密真空镀膜设备,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺,在光学和热成像组件上沉积类金刚石碳(DLC)膜。该设备旨在为锗(Ge)和硅(Si)基材提供硬且均匀、具有环境耐受性的DLC层,优化用于红外(IR)减反射和表面保护涂层。

主要优点
  • 基材兼容性强:采用重力固定,可处理各种形状与几何结构的基材,最大直径可达300 mm,厚度约30–40 mm。
  • 面向IR的工艺优化:工艺参数与材料针对Ge和Si基材进行匹配,以提高红外透过率并实现一致的减反射性能。
  • 耐久的DLC保护层:系统沉积极其坚硬、均匀且具有较高环境耐受性的DLC膜,以保护暴露的光学表面。


突出特性
工艺腔体与气体分布 — 基准级均匀性:DLC 600 的气体喷头设计可在腔体内实现高度均匀的工艺气体分布,确保基材全区域的膜层生长一致并严密控制膜厚,这对于夜视、距离传感器等低光或红外应用尤为关键。

在线光学监测 — 重现性的层堆栈:集成的 OMS 5100 光学监测系统对膜层生长进行实时控制,确保膜厚公差和高重复性,使设计的层堆栈与最终产品一致。

技术规格
  • 沉积技术:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)用于DLC膜。
  • 涂层类型:类金刚石碳(DLC)— 高硬度、均匀、耐环境。
  • 适用基材:锗(Ge)与硅(Si),为IR减反射应用优化。
  • 最大基材直径:可达300 mm。
  • 典型基材高度:约30–40 mm。
  • 基材固定方式:重力固定以适配多种几何形状。
  • 工艺控制:OMS 5100 在线光学监测用于膜厚控制与可重复性。
  • 气体分布:专用气体喷头以实现卓越的均匀性。
  • 产品代码:CUBE-00010-019。


典型应用
  • 用于精密光学的IR减反射涂层。
  • 夜视设备和热成像系统的DLC保护层。
  • 在红外波段工作的传感器与光学元件,需耐用且可重复的涂层。

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