产品概述LEYBOLD OPTICS GLC H 系列是用于玻璃的真空镀膜系统,通过磁控溅射在建筑和汽车用玻璃上沉积 low-e、太阳能控制、减反射及其他功能性薄膜。该系统采用模块化设计,便于在生产环境中根据产能与工艺需求进行配置和扩展。
主要优点- 降低能耗:采用高效能电源与泵,以及优化的工艺腔室设计,在保持沉积速率的同时降低总体能耗。
- 涂层适应性强:支持 low-e、阳光控制、减反射等功能膜;模块化的磁控管与泵配置便于更改工艺或扩容。
- 产能提升可达 25%:间隙管理可将连续基板间距控制至 30 mm,提高涂布效率、节约靶材,降低交叉污染并延长清洗间隔。
核心特性- 膜层均匀性和高沉积速率:磁控溅射腔内的专用布气系统在反应性与非反应性工艺中均能保证膜层均匀并实现高沉积速率。
- 高可用性与延长运行周期:通过优化靶材收集效率、减小间隙(30 mm)及先进的过程控制(包括远程可调磁棒)实现更长的生产周期。
- 缩短维护停机时间:模块化与符合人体工程学的布局便于维护与清洁,减少停机时长。
其他功能 / 可选项- 可选液压盖:用于入口、缓冲、传送和出片腔,避免使用重型起重设备并节省占地空间。
- PLC 与网络控制:兼容常见 PLC 接口,可集成至 MES、自动化与数据管理系统。
- 多种玻璃尺寸选项:标准 US = 2590 x 4200 mm、Jumbo = 3300 x 6100 mm;支持合并模式处理超长玻璃,兼容 PLF、DLF、切割尺寸及混合装载。
- 模块化架构:提供单入/出腔或两级入/出腔两种基础配置,以满足不同产能需求并支持现场升级。
技术规格- 沉积方法:磁控溅射(反应性与非反应性)。
- 支持涂层:low-e、阳光控制、减反射及其他功能薄膜。
- 基板最小间隙:30 mm(通过间隙管理提升效率并节约靶材)。
- 玻璃尺寸(标准):US = 2590 x 4200 mm;Jumbo = 3300 x 6100 mm;支持超长玻璃的合并模式。
- 适用玻璃厚度:2–19 mm。
- 产能配置(参考):单入/出腔约 2,000,000–9,000,000 m²/年;两级入/出腔约 5,000,000–22,000,000 m²/年。
- 过程控制:布气系统防止靶材中毒(O2、N2)、远程可调磁棒、靶材利用优化。
- 可选项:液压盖、模块化磁控管/泵配置、PLC/MES 连接。