电子枪真空镀膜机
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... 概述
LEYBOLD OPTICS LTE series是一款用于纳米级结构化特征并与lift‑off工艺配套的长抛射真空蒸镀系统。该系列特别针对半导体制造与研发设计,能实现近垂直的定向沉积,保证高均匀性的图形薄膜。
主要优势
- 优异的涂覆质量:在结构化晶圆上实现高精度涂覆,最小化阴影效应,适用于高级3D图形。
- 服务与专业支持:依托Leybold Optics / Bühler在薄膜技术方面的经验与全球服务网络。
- 灵活性:可蒸镀金属和氧化物,支持多种晶圆尺寸与大批量材料处理;系统可按工艺需求定制。
主要特点
先进的长抛射蒸镀几何设计 ...
... Dexinmag 的物理气相沉积 (PVD) 设备可通过物理过程(蒸发、溅射、离子束等)将原子或分子从材料源转移到基底表面,用于制备薄膜和纳米/微结构涂层。 PVD 涂层的优点
- 简单--不涉及化学反应,只有原子/分子的物理转移。
- 可控--沉积速率和薄膜厚度可由温度、角度、距离、功率和其他参数控制。
- 安全--涂层过程中不需要有毒、有害、易燃或易爆气体。 产品类别
- 磁控溅射镀膜系统
- 激光镀膜设备
- 蒸发镀膜设备
- 电子束蒸发/镀膜系统
... 概述
- DXD-500电子束蒸镀涂覆系统用于制备导电膜、半导体膜、铁电膜和光学薄膜。适用于高校与科研机构的科学研究及小批量生产。
组成
- 系统主要由蒸镀真空室、E型电子枪、加热蒸镀电极、基板加热回转盘、工作气体回路、泵浦系统、真空测量与电子控制系统、安装设备及相关配件组成。
技术指标
- 型号:DXD-500
- 结构:真空室采用U形箱体,前门,后置泵系统。
- 真空室内尺寸:500
... DXMC-500A 为电子束 PVD 镀膜系统,用于金属(尤其耐火金属)及部分氧化物的蒸发镀膜。设备采用270°电子束偏转,配备等离子体发光放电清洗与一体化工艺控制,适用于实验室与轻工业生产。
主要技术参数
- 真空腔体:SUS304 不锈钢,尺寸 Φ500 mm × H600 mm,前门带观察窗,可查看电子枪与工件。
- 电子枪:一套 E 型 10 kW,位于腔体底部,带气动挡板;电子束偏转角270°;六孔水冷铜坩埚(电气可换位)。
- 热蒸发:配置两套轮换工作热蒸发源(可切换);配电子枪蒸发源
... 应用范围: 精密光学薄膜和电学薄膜,如滤光片、减反射膜、反射膜、滤光膜、分光膜、带通膜、介质膜、高反射膜等各种膜系统,可实现 0-200 层膜系统的膜镀膜。 ...