概述Bühler 的 HELIOS 溅射镀膜机专为高精度薄膜光学镀膜而设计,适用于激光线、steep-edge 与陷波滤光片、激光与啁啾镜、偏振片、分束器、生物与 ADAS 传感器以及消费电子等领域。
主要优点- 优越的膜层性能:优化的薄膜氧化、更高的膜层密度和更低的层损失,实现高激光损伤阈值、低散射和高反射率;支持超过 200 层或总厚度约 20 µm 的叠层。
- 卓越的工艺控制:基板上原位光学监控提供优异的工艺稳定性、高生产重复性以及超薄层的厚度精度。
- PARMS 创新:等离子体辅助反应式磁控溅射(PARMS)实现原子级对超薄层的精确控制,提升良率与产品等级。
突出特点- PARMS 技术:通过两台磁控管结合中频(MF)和射频(RF)溅射,实现高低折射率金属靶的介电涂层沉积。
- 基板上光学监控:集成 LEYBOLD OPTICS OMS 5100,用于精确的层终止控制,并支持在自动装载器情况下不破真空更换测试玻璃,实现长时间无人值守。
- 快速原型转移:光学设计可快速在生产工具之间传递,缩短产品上市时间。
其他特点 / 工艺能力- 溅射与共溅射用于折射率调整,具有高度材料灵活性;通过同时使用两套溅射站可实现中间有效折射率。
- 可定制化:支持不同基板尺寸、搬运系统及多种靶材选择,以满足特定产品与生产需求。
应用- 半导体与成像:成像与传感滤光片、晶圆级光学、AR 组件、ADAS/LiDAR 传感器、超光谱成像。
- 精密光学与电信:光谱选择、介电镜、偏振片、分束器、用于通信的窄带滤光片。
- 生物成像与医疗:用于荧光显微镜和医疗分析的多陷波/多通带滤光片。
装载与搬运系统(示例)- 单片晶圆加载器:适用于小批量生产的半自动紧凑型方案。
- 单卡匣加载器:用于中等产量的自动装载方案。
- 多卡匣加载器:用于大批量连续运行,具备多个装载锁和测试玻璃存储。
- 晶圆直接加载器:大批量直接加载标准卡匣,减少操作人员与晶圆接触。
- SMIF-pod 直接加载器:完全自动化解决方案,适配 AGV/OHT 机器人(E84)集成。
- HELIOS 1200 FOUP 直接加载器:支持 FOUP 装载,配备翻转与对准功能,适用于量产环境。
更多信息 / 文档HELIOS 系列(HELIOS 800 / HELIOS 1200)的产品手册与技术数据表可在产品文档中下载获取。
技术规格- 工艺技术:PARMS(Plasma-Assisted Reactive Magnetron-Sputtering),结合 MF 与 RF 溅射。
- 基板上光学监控:LEYBOLD OPTICS OMS 5100,用于精确层终止与高重复性。
- 层能力:支持 >200 层的复杂多层结构或总厚度约 20 µm。
- 材料灵活性:支持溅射与共溅射,广泛的靶材选择并可通过双站调节折射率。
- 自动化:多种装载选项(单片晶圆、单卡匣、多卡匣、晶圆直装、SMIF、FOUP)满足小至大批量生产需求。