AMOT高温炉

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钟形炉
钟形炉
HITT

温度: 0 °C - 1,150 °C

... 取向(GO)电工钢带的 高温退火(HTA)用于通过二次再结晶形成有利于磁性的高斯结构晶粒。较高的处理温度(高于1150°C)和纯氢气氛也可用于去除硫和氮。在前述的步骤中氧化镁涂层防止在带卷间产生粘连。 HICON/H2退火炉采用了氢气气氛的安全理念。料卷通过 加热罩和内罩辐射的热能进行 加热。 艾伯纳的设计具有以下优势: 与其他设计相比,密封、气密的炉内空间可显著降低气氛消耗(最多可节省50%)。 快速 加热和冷却,氢浓度可高达100% →与100%氮气气氛相比,生产率显著提高。 安装氢气回收系统 ...

室式炉
室式炉
TR 400

温度: 400 °C
容量: 140 l - 735 l

... 定义:适用于所有应用的强制对流电炉。 结构:低碳或不锈钢版本-I,几个货架。 保温:所有表面的岩棉 保温,包括门。 通风:不锈钢电机呼吸机。 可调节的空气出口。 加热:屏蔽电阻。 电力:3 x 400 瓦特航空器。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 交付:2 架子(穿孔板)。 ...

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SOLO Swiss & BOREL Swiss
室式炉
室式炉
FP 1400

温度: 1,400 °C
容量: 5.3 l - 29.7 l

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室式炉
室式炉
FP 1500

温度: 1,500 °C
容量: 5.3 l - 29.7 l

... 定义:用于所有应用的电箱炉, 高温。 结构:由弯曲板制成的坚固结构。 垂直升降前门。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热:碳化硅 加热元件。 加热在门开口时关闭。 电力:3 x 400 瓦特航空器。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 交付与: 可拆卸陶瓷鞋底. ...

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室式炉
室式炉
FP 1600

温度: 1,600 °C
容量: 5 l - 29.7 l

... 定义:用于所有应用的电箱炉, 高温。 结构:由弯曲板制成的坚固结构。 垂直升降前门。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热:碳化硅 加热元件。 加热在门开口时关闭。 电力:3 x 400 瓦特航空器。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 交付与: 可拆卸陶瓷鞋底. ...

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室式炉
室式炉
MO 1700

温度: 1,700 °C
容量: 2.5 l - 8.1 l

... 定义:用于所有应用的电箱炉, 高温。 结构:由弯曲板制成的坚固结构。 垂直升降前门。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热加热元件型 MoSi2。 加热在门开口时关闭。 电力:单相直通空调 230 台、50 赫兹至 7 千瓦的直通空调、3x400 台、50 赫兹以上的直通空调、7 千瓦以上的直通空调。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 ...

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室式炉
室式炉
MO 1800

温度: 1,800 °C
容量: 2.5 l - 15.8 l

... 垂直升降前门。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热加热元件型 MoSi2。 加热在门开口时关闭。 电力:单相直通空调 230 台、50 赫兹至 7 千瓦的直通空调、3x400 台、50 赫兹以上的直通空调、7 千瓦以上的直通空调。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 可@@ 应要求提供选项:Axron 瑞士温度程序员,超温保护,额外的金属或陶瓷鞋底,附加 加热元件组,延长保修。 ...

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炉底可移动式炉
炉底可移动式炉
LE 1100 -1400

温度: 1,100 °C - 1,400 °C
容量: 7.4, 7.5 l

... 定义:带上升地板的炉子快速撤出。 结构:机械焊接框架。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热加热元件包围的工作室。 电力:电压 230 瓦交流电,50 赫兹至 4 千瓦,和电压 3x400 瓦交流电,频率 50 赫兹从 4.5 千瓦。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 ...

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管状炉
管状炉
TU 1400

温度: 1,400 °C

... 定义:管式电炉,适用于所有应用。 结构:由弯曲板制成的坚固结构。 绝缘:多层绝缘。 内部采用陶瓷纤维和耐火砖。 加热:碳化硅 加热元件。 电力:3 x 400 瓦特航空器。 调节:Axron 瑞士 PID 温度控制器。 文档:CE 标记和操作说明英文。 ...

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管状炉
管状炉
TU 1500

温度: 1,500 °C

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管状炉
管状炉
TU 1600

温度: 1,600 °C

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橱柜式炉
橱柜式炉
VF-5100

宽度: 900, 1,000 mm
高度: 2,930, 3,300 mm
深度: 1,850, 1,950 mm

... 英寸晶圆的超 高温处理。该系统可以灵活地配置,使您的生产线能够处理各种产品。该炉在功率器件制造方面表现出色。 特点 可为各种生产线提供灵活的设备配置 可选择50到150个晶圆的批量尺寸 可提供4至8英寸的晶圆尺寸 4到8个盒式库存 使用LGO 加热器进行从低温到中 高温范围的出色温度控制 使用单片/五片晶圆处理机器人进行高速晶圆传输 配备了便于操作的高性能控制系统 这种用于4-8英寸晶圆的立式炉可以灵活地满足您的生产线需求。您可以从50到150个晶圆中选择要加工的晶圆数量。您可以从LGO 加热器、二硅化钼 ...

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
CLH Series

温度: 530, 500, 450 °C
宽度: 1,285 mm
高度: 2,020, 2,080 mm

... 通过耐热高性能过滤器和独特的冷却装置,在清洁环境中实现 高温烘烤。 采用热风循环系统,可高度精确地进行晶圆和玻璃基板烘烤/老化、聚酰亚胺固化和退火。 特 点安装 了耐热高性能过滤器和我们独特的冷却装置,以实现 高温烘烤。 当温度稳定时,室内可以保持 100 级清洁度。 热风机有两种类型:水平循环的前侧鼓风机(V 型)和侧侧鼓风机(III 型)。 两者均可实现高热效率和良好的温度均匀性。 这种类型的烤箱非常适合半导体晶圆和玻璃基板烘烤、老化和其他要求高精度的热处理。 ...

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
VF-5300HLP

温度: 700 °C - 1,900 °C

... 一个能够进行超 高温加工的立式炉,是功率器件制造的理想选择。支持6至8英寸的晶圆,并有一个自动晶圆转移机制。可用于大规模生产。 特点 每批最多可支持100个晶圆,可用于大规模生产的生产线。 支持从6到8英寸的广泛的晶圆尺寸。 炉子内部具有我们专有的无金属结构。 能够在晶圆附近进行温度监测。 提供一个N2负载锁作为标准功能。 高产量的盒对盒运输 带沟槽圆角的H2气氛退火可作为一个选项。 VF-5300HLP是一种立式炉,每批最多可以处理100片晶圆,晶圆尺寸范围从6到8英寸。精心挑选的硬件和控制系统功能使其能够在大规模生产的生产线上使用 ...

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
VF-5300H

温度: 700 °C - 1,400 °C

... 一个能够进行 高温加工的立式炉,是功率器件制造的理想选择。支持氧氮化和尺寸达8英寸的晶圆。具有自动晶圆转移机制,可用于大规模生产。 特点 支持最大75个晶圆(200毫米/8英寸)或最大75个晶圆(200毫米/8英寸)或最大100个晶圆(150毫米/6英寸)。100个晶圆(150毫米/6英寸),并可在大规模生产的生产线上使用。 支持广泛的晶圆尺寸,最大可达8英寸。 能够在晶圆附近进行温度监测。 炉子内部具有我们专有的无金属结构。 支持不同的氧化/氧氮化工艺的连续加工(湿/干氧化、H2退火、NH3氮化 ...

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
VF-3000H

温度: 700 °C - 1,400 °C

... 可进行 高温处理的立式炉,是电力设备制造的理想选择。 支持高达 8 英寸尺寸的渗氧和晶圆。 具有自动晶圆传递机构,可用于从研发到批量生产的各种应用。 特点 支持从小批量到 50 个晶圆的批量规模,以及从研发到批量生产线的应用。 支持各种不同尺寸的晶圆,最大可达 8 英寸。 可在晶圆附近进行温度监测。 炉内部采用我们专有的无金属结构。 支持不同氧化/氧化过程的串行加工(湿/干氧化、H2 退火、NH3 氮化、NO/N2O 氧化)。 室内清洁装置(可选) ...

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Koyo Thermos Systems
橱柜式炉
橱柜式炉
VF-3000H

温度: 700 °C - 1,850 °C

... 一个能够进行超 高温加工的立式炉,是功率器件制造的理想选择。支持3-6英寸晶圆,并有一个自动晶圆转移机制。可用于从研发到大规模生产的各种应用。 特点 支持从小批量到50个晶圆的批量大小,以及从研发到大规模生产线的应用。 支持从3到6英寸的广泛的晶圆尺寸。 炉子内部具有我们专有的无金属结构。 能够在晶圆附近进行温度监测。 提供一个N2负载锁作为标准功能。 高产量的盒对盒运输 带沟槽圆角的H2气氛退火可作为一个选项。 VF-3000H是一个垂直炉,可以处理从小批量到50个晶圆的批次,以及从3到8英寸的各种晶圆尺寸 ...

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室式炉
室式炉
UTO

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
CLH series

温度: 530, 500, 450 °C
宽度: 1,285, 1,180 mm
高度: 2,080, 2,110, 2,020 mm

... 耐热的高性能过滤器和我们独特的冷却装置可以在清洁的环境下进行 高温烘烤(最高530℃(V型最高500℃))。 热空气循环系统可以实现出色的温度均匀性和100级的空气洁净度(当温度稳定时)。 这种类型的烤箱是半导体晶片和玻璃基板烘烤以及老化和其他需要 高温和高精确度的热处理的最佳选择。 通过向炉室引入氮气(N2),可在20ppm或更低的残余O2浓度下进行热处理。 特点 安装了一个耐热的高性能过滤器和我们独特的冷却装置,以实现 高温烘烤。 在温度稳定的情况下,炉膛内部可以保持100级的清洁度。 有两种热空气鼓风机类型 ...

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融焰炉炉
融焰炉炉
810 series

温度: 1,000 °C
宽度: 530, 610 mm
高度: 1,360 mm

... 这些用于实验(R&D)的紧凑型传送炉完全可以支持制造电子元件的各种环境,包括空气、N2和氢气(还原)环境。 安装在入口和出口处的吹扫室使炉内的气氛具有良好的稳定性和可重复性。 特点 结构紧凑,占地面积小 是多种产品的小批量生产的理想选择。 采用消音器可以在各种环境下连续处理。 通过一键式开/关盖子提高了维护性。 包括一个触摸面板。 包括一个标准的每周定时器。 炉子尺寸紧凑 ...

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
KLO-30NH

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Koyo Thermos Systems
室式炉
室式炉
HTK series

温度: 1,500, 1,600, 1,750, 1,800 °C
容量: 16 l - 480 l

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ThermConcept Dr. Fischer
管状炉
管状炉

温度: 1,600 °C - 1,800 °C

... 高温管式炉最 高温度为 1500° C、1600° C、1750° C 和 1800° C,为研究和生产提供广泛的管式炉。 管式炉可根据客户要求进行配置,因此可以精确匹配所需的工艺:对于 1500° C 至 1600° C 的温度范围使用 SiC 棒 加热,对于 1600° C 至 1800° C 的温度范围使用 MoSi2 加热元件单区或多区 加热管细分长度水平或垂直设计多管式炉旋转管式炉可在标准气氛、受控气氛或真空下操作 ...

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ThermConcept Dr. Fischer
炉底可移动式炉
炉底可移动式炉
KLC series

温度: 1,400 °C - 1,600 °C
容量: 6 l - 33 l

... 带有碳化硅棒 加热装置的 高温炉最 高温度为 1400 °C、1500 °C 和 1600 °C炉膛内均匀性极佳双层炉壳,带后部通风装置,可确保极低的外壳温度平行导向炉门向上移动,热隔热表面位于后部,远离操作人员、 加热元件由固态继电器控制,可实现非常精确的温度控制,无磨损,无噪音排气管位于炉顶。 ...

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ThermConcept Dr. Fischer
管状炉
管状炉

温度: 1,700, 1,200 °C

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ThermConcept Dr. Fischer
室式炉
室式炉
HTL series

温度: 1,600, 1,700, 1,750, 1,800 °C
容量: 2, 4, 6, 8 l

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ThermConcept Dr. Fischer
隧道炉
隧道炉

温度: 100 °C - 650 °C

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