化学监控系统 CS-1000

浓度测量

CS-1000 可同时测量含有低浓度成分的化学溶液中的三个参数，从而推动半导体制造工艺的发展。 HORIBA Advanced Techno, Co.(以下简称 "HORIBA 先进技术"）发布了新型 CS-1000 化学溶液监测系统。 CS 系列分析仪可实时测量半导体制造过程中使用的化学品浓度，自 1995 年推出以来已满足了该行业近 30 年的需求。 CS-1000 是一款性能更强的独立系统，采用独特的算法（专利申请中*2），结合吸光度、*3 电导率和 pH 值分析，无需任何预处理，即可检测化学溶液中痕量（ppm*1 级）存在的特定化学物质。CS-1000 可同时测量浓度（多达八种化学成分）、电导率和 pH 值三个参数，更新周期短至六秒*4 ，为质量控制的进步做出了贡献。由于 CS-1000 每六个月只需约四个小时*5 的维护时间，因此还有助于减少停机时间。此外，CS-1000 还支持同时测量两种不同的化学溶液，有助于提高生产率。 随着半导体的微型化，用于制造半导体的化学品也越来越多样化，例如含有多种成分或微量成分的化学品。这就要求对多种参数进行严格的质量控制