NanoFlux SLM系列是单模(SLM)高能量Q开关Nd:YAG激光器,专为需要高脉冲能量和卓越稳定性的苛刻应用而设计。这些电光Q开关纳秒激光器每脉冲可提供高达10 J,适用于OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息术、LIF光谱学、遥感、光学测试等。
特点- 高达10 J的脉冲能量
- 2至25 ns的脉冲持续时间
- 10 Hz的脉冲重复率
- 二极管泵浦,自种子单纵模(SLM)主振荡器
- 稳定的主振荡器腔体产生TEM₀₀空间模式输出
- 卓越的脉冲能量稳定性
- 经济高效的闪光灯泵浦功率放大器
- 标准2 ns脉冲持续时间(2–25 ns可选)
- 温度稳定的谐波发生器选项
- 通过键盘、USB和LAN接口进行控制,附带Windows控制软件(RS232可选)
应用- 材料加工
- OPO、OPCPA、Ti:Sapphire、染料激光泵浦
- 全息术
- 非线性激光光谱学
- 光学测试
描述- 创新的二极管泵浦,自种子主振荡器设计实现了SLM输出,无需外部窄线宽种子二极管或腔锁定电子设备。
- 稳定的主振荡器腔体确保TEM₀₀空间模式输出,放大后具有优良的光束特性。
- 提供改进的高斯拟合模型,适用于需要平滑、接近高斯光束轮廓的应用。
- 线性放大器为高能量纳秒系统提供经济高效的解决方案,具有先进的光束整形功能,实现平滑、无热点的空间轮廓。
- 低光去极化使得使用可选内置谐波发生器高效生成高达4次谐波。
- 温度稳定的加热器中的角度调谐非线性晶体谐波发生器用于生成二次、三次和四次谐波,具有高光谱纯度和手动或可选电动波长切换。
- 相对于Q开关触发的低光学脉冲抖动允许与外部设备可靠同步。
- 系统控制可通过控制板、USB、LAN和可选RS232进行,使用Windows兼容软件。
选项- – G: 提供类似高斯的光束轮廓(减少基波输出能量约80%)
- – AW: 空气-水冷却选项(替代或补充水-水冷却单元;热量散失等于总功耗)
- – N2…N25: 更长的脉冲持续时间选项(2–25 ns范围)
规格- 型号: NanoFlux N2k10-SLM, NanoFlux N5k10-SLM, NanoFlux N10k10-SLM
- 输出能量: 在1064 nm: 2000 mJ / 5000 mJ / 10000 mJ; 在532 nm: 1000 mJ / 2500 mJ / 5000 mJ; 在355 nm: 450 mJ / 1300 mJ / 2500 mJ; 在266 nm: 140 mJ / 750 mJ / 1500 mJ
- 脉冲重复率: 10 Hz
- 脉冲持续时间: 2 ± 0.5 ns(其他持续时间2–25 ns可选)
- 脉冲能量稳定性: 在1064 nm: ≤ 0.8 %; 在532 nm: ≤ 1.5 %; 在355 nm: ≤ 3 %; 在266 nm: ≤ 4 %
- 长期功率漂移: ± 2 %
- 光束空间轮廓: 超高斯
- M²: 4.4 / 6.6 / 9.2(取决于型号)
- 光束直径: ~12 mm / ~18 mm / ~25 mm
- 光束指向稳定性: ≤ 25 µrad
- 光束发散: ≤ 0.5 mrad
- 光学脉冲抖动: ≤ 0.2 ns
- 线宽: ≤ 0.01 cm⁻¹(SLM)
- 偏振: 线性, >90 %
- 激光头尺寸(W×L×H mm): 455 × 1220 × 270 / 600 × 1500 × 300 / 700 × 2000 × 300
- 电源尺寸(W×L×H mm): 550 × 600 × 1030(或更大型号的2个单元)
- 脐带长度: 5 m
- 电力要求: 208, 380或400 V AC,三相,50/60 Hz
- 功耗: ≤ 5 kVA / ≤ 6 kVA / ≤ 8 kVA
- 供水: ≤ 5 l/min, 2 Bar, max 15 °C / ≤ 7 l/min / ≤ 10 l/min(取决于型号)
- 工作环境温度: 22 ± 2 °C
- 储存环境温度: 15–35 °C
- 相对湿度(无凝结): ≤ 80 %
- 房间清洁度: ISO 7级
注意: 激光器必须始终连接到主电源。如果断开超过1小时,则在重新启动之前需要几个小时的预热时间。