探针式轮廓测量仪 NS200

表面糙度测定用于控制实验室

触针纳米轮廓仪 NS200 是用于表面粗糙度、显微轮廓、微纳米台阶高度和薄膜厚度的接触式测量仪器。其采用亚埃级位移传感器、超低噪声信号采集、精细运动控制及先进校准算法，实现极小接触力，并适用于不同表面反射、材料与硬度等级——适合半导体、LED、太阳能、MEMS、触摸屏、汽车及医疗设备检测。

应用

• 半导体
  • 沉积薄膜的台阶高度
  • 薄膜光刻胶的台阶高度
  • 刻蚀速率测量
  • 化学机械抛光（腐蚀、点蚀、弯曲）
• 大尺寸基板
  • PCB 凸起与台阶高度
  • 窗玻璃涂层
  • 晶圆掩膜
  • 晶圆卡盘涂层
  • 抛光板
• 玻璃基板与显示
  • AMOLED
  • LCD 开发过程中的台阶高度测量
  • 触控面板膜厚及太阳能涂层薄膜厚度测量
• 柔性元件上的薄膜
  • 有机光电探测器
  • 印刷在膜和玻璃上的有机薄膜
  • 触摸屏铜互连线

特性 / 技术规格

• 型号：NS200（亦可选 NS200-D）
• 样品观察 - 前视导航：5MP 彩色相机 F.O.V. 2.2 × 1.7 mm（NS200）/ 5MP 彩色相机 F.O.V. 10 × 13.4 mm（NS200-D）
• 样品观察 - 侧视导航：5MP 彩色相机 F.O.V. 2 × 2.68 mm（NS200-D），NS200 不适用
• 传感器：超低惯性 LVDC 传感器
• 测量力：1–50 mg 可调
• 触针：针尖半径 2 μm，角度 60°
• XY 行程范围：电动 X/Y 150 mm × 150 mm，手动可调水平
• 样品 R-θ 台：电动，连续旋转 0–360°
• 真空吸盘：6 英寸真空吸盘
• 单次扫描长度：55 mm
• 最大扫描范围：150 mm（XY 行程）+ 55 mm 扫描范围；最大量程 8"
• 最大样品高度：50 mm
• 最大晶圆尺寸：200 mm（8"）
• 台阶高度重复性*：5 Å @ 330 μm 量程 / 10 Å @ 1 mm 量程（测量台阶高度 1 μm，1δ）
• 传感器量程：330 μm 或 1050 μm（330 μm 探针为磁性；除非需要超大量程，否则选择 330 μm）
• 扫描速度：2 μm/s 至 10 mm/s
• 最大扫描采样点数：12,000
• 尺寸（长 × 宽 × 高）：NS200：640 × 610 × 500 mm；NS200-D：640 × 650 × 530 mm
• 重量：40 kg
• 输入：AC 100–240 V，50/60 Hz，200 W
• 工作环境：湿度 30–40% RH（无冷凝）；温度 16–25 °C（波动 < 2 °C/h）；地面振动：6.35 μm/s（1–100 Hz）；声音噪声 ≤ 80 dB；气流（层流） ≤ 0.508 m/s（向下流）
• 备注：重复性数据在带防振台的 VC-C 标准实验室中测得；若不满足这些条件，重复性数据将加倍。