{{#pushedProductsPlacement4.length}}
{{#each pushedProductsPlacement4}}
{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}}
{{/if}}
{{/each}}
{{/pushedProductsPlacement4.length}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}}
{{content}}
{{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }}
{{#if product.productPrice.price }}
{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}}
{{#if product.hasVideo}}
{{/if}}
{{#each product.productTagAssociationList}}
{{/each}}
{{#pushedProductsPlacement5.length}}
{{#each pushedProductsPlacement5}}
{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}}
{{/if}}
{{/each}}
{{/pushedProductsPlacement5.length}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}}
{{content}}
{{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }}
{{#if product.productPrice.price }}
{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}}
{{#if product.hasVideo}}
{{/if}}
{{#each product.productTagAssociationList}}
{{/each}}
PECVD等离子发生器
TruPlasma DC Series 4000 (G2)
... 系列为困难材料的反应性直流溅射设计，属于脉冲式直流电源。设备支持脉冲模式与偏压模式两种工作方式，在对涂层质量和产能要求极高的 PVD / PECVD 工艺中提供稳定的等
离子体性能，降低电弧导致的停机并减小基板损伤。
标语
脉冲工艺，实现光亮表面
主要特性
- 数字信号处理，实现稳定的等离子体控制并将电弧相关的时间损失降到最低。
- 快速电弧处理，低电弧能量以减少基板损伤和表面缺陷。
- 宽泛且可调的脉冲频率范围及可调反向
清空对比产品
对比多达10种产品