PECVD等离子发生器 TruPlasma DC Series 4000 (G2)

PVD

概述
TruPlasma DC 4000 (G2) 系列为困难材料的反应性直流溅射设计，属于脉冲式直流电源。设备支持脉冲模式与偏压模式两种工作方式，在对涂层质量和产能要求极高的 PVD / PECVD 工艺中提供稳定的等离子体性能，降低电弧导致的停机并减小基板损伤。

标语
脉冲工艺，实现光亮表面

主要特性

• 数字信号处理，实现稳定的等离子体控制并将电弧相关的时间损失降到最低。
• 快速电弧处理，低电弧能量以减少基板损伤和表面缺陷。
• 宽泛且可调的脉冲频率范围及可调反向/偏压电压，便于灵活调整工艺参数。
• 紧凑坚固的机箱，集成水冷装置，节省安装空间并降低维护工作量。
• 双重功能：单台设备支持脉冲与偏压两种运行模式。

应用

• 硬质涂层：提供稳定等离子体以实现高表面硬度及更佳的热/化学稳定性。
• 金属化（PVD）：沉积超薄、均匀的金属薄层以获得优良的光学与电学性能。
• 光伏制造：适用于低电弧能量要求的导电透明氧化物（TCO）等涂层沉积。
• 建筑玻璃：适合大面积 PVD 涂层，满足高工艺电源需求的应用。

客户收益

• 通过降低飞溅物、减少表面缺陷并提高沉积速率，提升涂层质量和生产效率。
• 可调脉冲参数与偏压运行提供工艺灵活性，适应多种应用需求。
• 先进的监控与诊断工具有助于工艺优化并减少停机时间。

可选项

• 支持多台电源并联运行与同步，包括电弧检测的同步与脉冲模式的同步，适用于多靶系统。

软件
PVD Power：多语言用户界面，便于操作、配置与诊断。显示实际工艺参数、警告/报警，可设定目标值，并以高时间分辨率记录与可视化运行参数（含示波器功能）。

规格 / 技术参数

• 技术类型：脉冲式直流（Pulsed DC），适用于反应性 DC 溅射；支持偏压模式。
• 工作模式：脉冲模式与偏压模式（单台支持两者）。
• 电弧管理：数字化快速电弧处理，低电弧能量。
• 过程控制：数字信号处理；宽可调脉冲频率范围；可调反向电压。
• 冷却与结构：集成水冷设计，紧凑耐用，便于安装与维护。
• 扩展性：支持多台电源并联与同步运行。
• 软件：PVD Power，用于操作、配置、诊断以及示波器式数据记录/可视化。
• 典型应用：PVD/PECVD 硬质涂层、金属化（TCO）、光伏电池生产、大面积建筑玻璃涂覆。