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... 汽车系统追求燃油效率、轻量化、减排和设计灵活性，在材料选择方面，与金属相比，工程塑料显示出其优势和无限潜力。PPS 之所以如此特殊，是因为它以其多功能的特性为汽车工业的生命质量做出了巨大贡献：更高效、更安全、更舒适、更美观；设计理念和成型工艺无限，更具灵活性。 PVD 直接电镀 PPS 塑料 在 PPS 上电镀镍是通过传统的钯/锡胶体活化系统与无电解化学处理实现的，这种工艺称为粗化。虽然日益严格的环境条件以及汽车行业要求的大幅降低成本迫使电镀行业寻求诸如直接金属化工艺等技术，但这些技术并没有得到广泛应用。 2019 ...
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... 氢燃料电池汽车双极板涂覆设备，碳基涂覆设备 , 双极板涂覆设备 应用： FCV 是燃料电池汽车的简称，是下一代绿色汽车的最新技术。它是 100% 环保的，不同于需要反复充电的干电池和充电电池等原电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块，通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了数千次测试，最终开发出了适当的处理方法。 在过去的三年里，皇家技术公司与客户密切合作，成功设计并制造出高效率、商业化和标准化的溅射沉积系统。我们坚信，这项技术将颠覆汽车行业。 ...
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... 采用 PVD 方法的 PCB（印刷电路板）镀金设备。 RTSP1215 设备专为采用溅射沉积技术的 PCB 镀金而定制。 如果您对最终成品或设备感兴趣，请联系我们！ ...
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... 中频/直流磁控溅射沉积设备，扁平餐具上的 PVD 溅射，不锈钢电子元件 摘要：PVD 电弧蒸发与 MF 溅射技术完美结合，可在产品表面生成高质量的功能性和美观性涂层。 为什么采用中频溅射？ 与直流和射频溅射相比，中频溅射已成为大规模生产涂层的主要薄膜溅射技术，特别是用于光学涂层、太阳能电池板、多层、复合材料薄膜等表面的电介质和非导电薄膜涂层的薄膜沉积。 它正在取代射频溅射，因为射频溅射的工作频率是千赫而不是兆赫，沉积速度更快，而且还能避免像直流电那样在复合薄膜沉积过程中出现靶中毒现象。 中频溅射靶材总是有两组。使用两个阴极，交流电在两个阴极之间来回切换，每次反向切换都会清洁靶材表面，以减少电介质上的电荷积聚，而电介质上的电荷积聚会导致电弧，电弧会将液滴喷入等离子体中，阻碍薄膜的均匀生长--这就是我们所说的靶材中毒。 使用中频溅射系统，我们可以获得石墨颜色，LAB ...
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... 玻璃载玻片和硅晶片镀金采用直流磁控溅射的 PVD 工艺，在玻璃载玻片、硅晶片、金属饰品、钢材、玻璃和陶瓷器皿等基材上沉积金金属薄膜层。除金溅射外，它还可以溅射银（Ag Silver）、铜（Cu Copper）、铝（Al Aluminum）、铬（Cr Chrome）、不锈钢（SS stainless steel 316L）等金属，用于导电薄膜或高档装饰。 金溅射层的特点 1.强烈建议在基材和金层之间使用 Ti 或 Cr 粘合层，以提高附着力； 2.金层厚度：根据不同的光学应用，从 ...
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... 感应加热具有工艺生产率高、通用性强、清洁、可实现全自动化等优点，因此被广泛应用于各个领域。作为 PVD 热蒸发技术的一种方法，该工艺对环境友好。由于感应加热的温度可达 2000℃以上，因此这种方法非常适合工业生产和科学研究。 RTEP400 感应蒸发镀膜机专为 C60 在各种材料上的蒸发沉积而设计。C60 制造商为前瞻性产品提供研发和测试结果。帮助他们拓展新应用行业的有力工具。 第一套设备已为上海大学生产。工业生产模型正在加工中。 应用领域 C60 ...
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... 冷光灯热蒸发装置，便携式蒸发镀膜机 热蒸发源。钨舟。配备霍尔离子源，高度提升薄膜的附着力，颜色更鲜艳。广泛应用于大学实验室、PVD真空镀膜教学、真空镀膜工艺研发、科学研究、光学镀膜材料制造商等。 特点。 1.本机配有电子束枪、坩埚、钨舟。在整个蒸发过程中，薄膜表面是平整的，蒸发分布是均匀的。 2.本机配备有石英晶体膜厚控制仪，可自动控制成膜速度和金属化过程。 3.本机配备了高功率的离子源，可以生产出质量良好的薄膜厚度。 4.整体结构设计合理，能更好地满足工艺要求。真空系统由PLC自动控制，操作方便。 5.真空操作系统有联锁保护。 它主要在光学镜片、眼镜、冷光灯、装饰性照明、水钻、玻璃、陶瓷等方面沉积薄膜。 ...
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概要: 誘導加熱は高いプロセス生産性および普遍性による異なった分野完全なオートメーションの清浄および可能性で広く利用されています。PVDの熱蒸発の技術の1つの方法として、プロセスは環境のために友好的です。誘導が2000℃および多くの温度に達することを割り当てるのでこの方法は工業生産のために非常に適して、科学研究。 RTEP0404誘導の蒸発のコータは材料のC60蒸発の沈殿のために変わります設計されています。C60は将来に提供しますR & Dおよび試験結果を製造します。新しい応用企業を拡大するためにそれらを助ける強い用具。 主要出願: 薄膜の層およびコーティングを沈殿させるため ...
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... 我们很高兴为您推荐 MultiWeb 系列卷对卷真空溅射卷材镀膜机，以满足您的多层沉积要求。 低辐射薄膜卷绕镀膜机 应用：电子纸、柔性电路、光伏、医疗带、RFID（射频识别）和低辐射薄膜。 沉积薄膜 1.基底材料PET、PEN、PES、PI、PC、PA...薄膜 2.基底厚度：15~300μm 3.沉积方法交流反应法用于二氧化硅（介质）；脉冲直流法用于 ITO（金属和导体） 4.氧化物导体 TCO：ITO、AZO、IZO... 5.金属导体铝、铜、钼、银 6.光学薄膜Ta2O5、Nb2O5、SiO2、TiO2... 7.半导体氧化锌、InGaZnO... 8.绝缘体SiO2, ...
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... 闭磁场不平衡磁控溅射沉积系统，不平衡磁控溅射离子镀 非平衡和闭磁场磁控溅射工艺具有平面磁控管的所有优点。其他优缺点如下 额外的离子轰击产生致密、附着的薄膜 可进行离子辅助和基底清洁 改进了薄膜的摩擦学性能、耐磨性和耐腐蚀性 适用于多层、超晶格、纳米层压剂和纳米复合薄膜 材料使用更少 更复杂的阴极配置/成本 非平衡和闭磁场磁控溅射彻底改变了磁控溅射工艺可实现的性能。虽然这项技术成功地改善了薄膜的摩擦学、耐腐蚀性和光学性能，但磁控溅射技术的改进才刚刚开始。下一篇博客我们将讨论旋转和圆柱形磁控溅射工艺以及由此产生的薄膜应用。 ...
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DLC（类金刚石涂层）涂层设备广泛应用于发动机零部件，有色金属切削工具、滑动密封部件、纺织行业等工业领域。 该系列设备适用于多种DLC涂层，可根据客户需求搭载过滤弧离子镀、非平衡磁控溅射、PE-CVD等组合配置，适用于汽车零部件制造、机械零件、模具、轴承、冲拉模、模具、航空航天部件等。 本公司开发的“中间层技术”DLC膜通过着力于中间层，从而实现良好的附着性、耐磨性、高硬度、低摩擦系数、低表面粗糙度，使 DLC涂层得到更优越的性能，一举攻破低温成膜技术的瓶颈，使得DLC涂层可在更多领域发展。
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多弧离子镀膜设备具有沉积速度快，离化率高、离子能量大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高。微米级厚度的硬质涂层可以有效的保护被镀产品的外观。低温镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积，涂层工艺的多种组合可以制造出更多色彩。
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联体镀膜设备是实力源保证高品质、高效率、高稳定性的基础上，推出更完美的真空镀膜量产解决方案。连续式镀膜可以使镀膜室不会暴露于大气，保证了镀膜工艺稳定的同时也节省了抽气时间，生产效率倍增。联体设备通过真空机组的简化和优化配置，镀制同等数量产品联体设备能耗约为单体设备能耗的60%，有效的节约能源，给企业降低成本，设备投资回收期大幅缩短。
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我司光学磁控溅射镀膜机技术拥有稳定的成膜系统，和配套精准的控制方式已被各大公司广泛应用。 该类型设备具有配套可制化工装，让客户产能效率达到最大化。实力源独有SI高离化靶源，生产中补足均衡高折射薄膜的制备。此技术可具备AR+AF薄膜及七彩渐变和光学薄膜的制备。该类型设备低温成膜形式，可应对各种产品的表面薄膜的制备。设备全自动化溅射控制模式，实时监控膜层状态，实现稳定、批量的生产。
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... 可以集成到现有的MBRAUN手套箱中（通过前室）。 - 适用于高达50 x 50毫米晶圆的基片 - 紧凑的设计 - 经济的解决方案 - 交付时间短 - 安装快速、简便 - 在现有的手套箱中易于改装 - OLEDs/有机电子 - OPVs ...
Mbraun
... - 手套箱集成系统 - 紧凑且具有成本效益的解决方案 - 简单的配置设计 - 共沉淀 - 均匀性可达+/-3 %（通过特定的几何设计，可达+/1 %）。 - 两种标准尺寸。PROvap 4G 和 PROvap 5G - 最多可以有8个沉积源 - 基片尺寸达100x100毫米或直径达100毫米（4英寸）。100 mm (4") 用于PROvap 4G - 基片尺寸可达150x150毫米或直径。150 mm (6") 用于PROvap 5G - OLEDs/有机电子 - OPVs - 电池 ...
Mbraun
... - 独立的系统 - 紧凑和具有成本效益的解决方案 - 简单的配置设计 - 可进行共沉积 - 均匀性可达+/-3 %（通过特定的几何设计，可达+/1 %）。 - 两种标准尺寸。UNIvap 4S和UNIvap 5S - 最多可以有8个沉积源 - 基片尺寸可达100x100毫米或直径为100毫米（4英寸）。UNIvap 4S的基片尺寸可达100毫米（4英寸）。 - 基片尺寸可达150x150毫米或直径。用于UNIvap 5S的150毫米（6英寸）基板 - OLEDs/有机电子 - OPVs ...
Mbraun
... - 灵活、模块化的系统 - 独立的（S）或手套箱集成的（G）。 - 集束工具的构建模块 - 多基底和多掩模工艺 - 标准均匀性。+/- 3 % (通过特定的几何设计可达到+/1 %) - 基片尺寸达150x150毫米或直径达150毫米（6英寸）的OPT。150毫米（6英寸），用于OPTIvap 4 - 基板尺寸最大为200x200毫米或直径为280毫米(8英寸)。280毫米（8英寸），用于OPTIvap 6 - 复杂的多层器件（OLED，OPV）。 - 光学层 - ...
Mbraun
... 100%专用于过氧化物的迷你PVD室 - 可以集成到现有的MBRAUN手套箱中（通过前室）。 - 紧凑型设计 - 适用于最大50x50毫米的基片 - 最多可以有4个光源 - 层的均匀性< +/-5 %。 - 经济的解决方案 - 交付时间短 - 易于在现有的手套箱中进行改装 ...
Mbraun
... 专门为过氧化物设计 - 高效研发的理想工具 - 特殊的系统设计 - 特殊的前驱体来源 - 低温下的高稳定性 - 稳定和明确的沉积过程 - 高真空条件 - 低交叉干扰 - 高可重复性 - 材料兼容，使用寿命长 - 正在申请专利 ...
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