光电子式光谱仪

... 概述
AXIS Supra+ 是一款成像型 X 射线光电子能谱仪（XPS），可提供材料表面最上层约 10 nm 的元素及化学态定量信息。在日本亦称为 Kratos Ultra 2。AXIS Supra+ 将高性能分光与并行成像能力与先进自动化相结合，适用于金属、半导体和绝缘体的科研及常规表面分析。

主要特性

• 灵敏度：在分光和 XPS 成像模式下具备优异灵敏度，适用于表面与痕量分析。
• 易用性：ESCApe 软件集成采集、处理与自动化控制，简化工作流程。
• 并行

... 它是一款高规格的欧杰电子能谱仪，配有半球形分析器，可对纳米到微米区域的化学键状态进行高通量分析，还配有场发射电子枪，也可用于 EPMA，因为它可以提供大而稳定的电流。 高精度微心试样台使得以前无法进行的绝缘体分析成为可能。它与浮动式离子枪相结合，可以处理金属和绝缘材料等任何试样，从而获得成分信息和化学信息。 特点 - 高灵敏度、高分辨率分析仪 采用能量分辨率可变的分析仪，可以在高分辨率模式下进行化学键状态分析，以及在高灵敏度模式下进行高速绘图。 - 肖特基场发射电子枪 这种电子枪既能实现 ...

... 一个多技术的超高压表面科学系统选项，提供XPS、UPS、AES、SAM、ISS和LEIS，安装在Hiden SIMS工作站上。 X射线光电子能谱是一种高度互补的技术，提供原子组成和化学状态结合的信息。XPS可以用来量化高浓度，因此是为灵敏度更高的SIMS技术提供校准点的理想选择。 UHV表面科学 海登SIMS工作站的两部分室是专门为安装XPS升级而设计的，使用了SPECS®的最先进的部件，并与倾斜的样品架一起，允许在同一个UHV平台上同时使用XPS和SIMS技术，而不会有任何影响。 PHOIBOS ...

... 最终成像 XPS 分辨率：500 nm /100 nm（实验室/同步）采用 PEEM 技术简单的样品导航 小点光谱像 差校正能量滤波器 高功率单色 X 射线源 ARUPS 与 FOC US GmbH 合作创建NanoESCA 提供了无与伦比的 XPS 横向分辨率（在实验室条件下实现小于 500 nm）的化学状态映射。 该仪器可以分析最小的样品结构，提供超出其他高横向分辨率技术（如扫描螺旋和 TOF SIMS）的极限范围的化学状态信息。 采用 在二次电子状态下工作的 PEEM 技术确保了实时样品导航。 ...

波长: 185 nm - 1,100 nm

... 一台强大而灵活的光谱仪，适合在您的手掌上使用 完美的通用解决方案 改进的光学设计--同类中最好的! 用户可更换狭缝和光学过滤器 紫外-可见-近红外 (185-1100 nm) 光纤光谱仪 包括LightScan软件 FLEX是我们新系列光谱仪中的第一款产品。所有光学元件都精确地组装在一个坚固、紧凑、轻巧的工作台中，使FLEX光谱仪在整个工作波长范围内具有更高的灵敏度、更强的峰值对称性和更低的杂散光，使该系列光谱仪成为通用的、最普通的光谱应用的完美解决方案。 用户可更换狭缝和滤光片、电源状态指示器和触发功能等功能为您的光谱设置提供了简便性和灵活性。FLEX有即用型（用于更常见的应用）和用户定制型（用于更特殊的应用）两种配置，包括标准型和改进型分辨率版本。 完美的通用解决方案，适用于光谱应用 FLEX结构紧凑，设计灵活，在提高灵敏度的同时，能够提供出色的性能，并能集成到大多数通用的光谱设置中。 极低杂散光的最佳光学器件 对于有吸光度/透光度测量需求的用户，FLEX是完美的解决方案。光学和机械设计的同时优化，使FLEX具有非常低的杂散光比例（在整个操作光谱范围内低于0.1%）。 ...