最终成像 XPS 分辨率:500 nm /100 nm(实验室/同步)采用
PEEM 技术简单的样品导航
小点光谱像
差校正能量滤波器
高功率单色 X 射线源
ARUPS 与 FOC
US GmbH 合作创建NanoESCA 提供了无与伦比的 XPS 横向分辨率(在实验室条件下实现小于 500 nm)的化学状态映射。 该仪器可以分析最小的样品结构,提供超出其他高横向分辨率技术(如扫描螺旋和 TOF SIMS)的极限范围的化学状态信息。 采用
在二次电子状态下工作的 PEEM 技术确保了实时样品导航。 PEEM 模式允许在较大的样品区域轻松查找小特征,并提供高分辨率(< 50 nm 分辨率)。 此外,PEEM 模式还提供了关于本地工作功能和本地样品充电的定量信息。
ARUPS 选项可以完成 NanoESCA 的光谱能力,该选项允许从 m 区域分析 k 空间,例如多晶表面的小颗粒,具有极大的角度接受能力。
因其革命性的设计而获得了 2007 年 R&D 100 奖。
---