X光光电子光谱仪 AXIS Supra+

实验室半导体工业用于光谱分析

概述
AXIS Supra+ 是一款成像型 X 射线光电子能谱仪（XPS），可提供材料表面最上层约 10 nm 的元素及化学态定量信息。在日本亦称为 Kratos Ultra 2。AXIS Supra+ 将高性能分光与并行成像能力与先进自动化相结合，适用于金属、半导体和绝缘体的科研及常规表面分析。

主要特性

• 灵敏度：在分光和 XPS 成像模式下具备优异灵敏度，适用于表面与痕量分析。
• 易用性：ESCApe 软件集成采集、处理与自动化控制，简化工作流程。
• 并行 XPS 成像：高速高空间分辨率成像，用于绘制元素与化学态的横向分布图。
• 分辨率：分光与成像模式下具备高分辨率，适合深入的表面化学研究。
• 自动化：仪器功能高度自动化，提升通量与重复性。
• 附加技术：模块化平台可配置补充的表面分析与制备选项而不影响 XPS 性能。

应用

• 电池与能量存储材料分析。
• 与 HAXPES（硬 X 射线光电子能谱）相关的研究。
• 涂层与薄膜表征。
• 使用氩簇溅射的 UPS‑XPS 深度剖面分析 OLED 薄膜等。
• 化合物半导体及多层材料的层组成定量。

可用文档（部分应用笔记）

• OLED 薄膜的氩簇 UPS‑XPS 组合深度剖面（应用笔记）。
• 化合物半导体层组成定量（应用笔记）。
• 使用不同光子能量消除核线／奥杰峰重叠（应用笔记）。

技术规格

• 品牌: Shimadzu
• 型号: AXIS Supra+
• 别称: Kratos Ultra 2（日本）
• 类型: 成像型 X 射线光电子能谱仪（XPS）
• 分析深度: 表面最上层约 ~10 nm
• 技术: 具备分光和并行成像模式的 XPS；支持采用氩簇溅射的 UPS‑XPS 深度剖面
• 成像: 用于横向化学分布的高空间分辨率并行 XPS 成像
• 灵敏度与分辨率: 设计以实现优良灵敏度和高分光/成像分辨率
• 软件: ESCApe，用于集成采集、处理与自动化控制
• 样品适配: 金属、半导体、绝缘体及各类薄膜/涂层
• 模块化: 可配置附加的表面分析与制备选项而不影响 XPS 性能