X光光电子光谱仪 XPS

实验室用于表面处理用于光谱分析

概述
X射线光电子能谱（XPS），亦称为化学分析电子谱（ESCA），是一种成熟的表面分析技术，用于材料表征。XPS可提供来自材料表面上约10 nm 深度的元素及化学态的定量信息。Kratos AXIS Nova 光电子能谱仪可在所需的超高真空条件下，从稳定的材料中采集XPS谱图和成像数据。

性能
为实验室与生产环境的高效使用而设计，AXIS Nova 配备自动样品装载、用于快速样品定位的正交摄像头以及直观的采集软件。110 mm 直径的样品台支持大尺寸样品的处理和高通量测量，同时保持光谱灵敏度、能量分辨率和空间成像性能。

主要特性

• Sensitivity — 高效采集光电子，在光谱和XPS成像模式下提供高灵敏度。
• Resolution — 优异的能量分辨率，可精确测量微小化学位移。
• Simplicity — 采用 Kratos 通用的 ESCApe 采集、处理与报告软件，实现一致的工作流程。
• Parallel XPS imaging — 支持表面元素及化学分布的成像映射。
• Automation — 自动化样品处理与预设工作流程，提高通量与重复性。
• Additional capabilities — 系统可扩展：可选配 UV He‑discharge 灯用于 UPS（价带和功函数测量）及其他分析模块。

应用（示例）

• 涂层与薄膜
• 聚合物与表面处理
• 交联等离子体聚合物的 Arn+ 气团溅射深度剖面
• 药物涂层聚合物支架的分析
• 组合薄膜系统 — 阵列分析

技术规格

• 技术：X射线光电子能谱（XPS）/ ESCA
• 分析深度：来自材料最上层约10 nm 的信息
• 样品台直径：110 mm（支持大样品处理）
• 样品处理：自动样品装载
• 定位：正交摄像头便于样品定位
• 成像：并行 XPS 成像，具有高空间分辨率
• 灵敏度与分辨率：高灵敏度与优异的能量分辨率
• 软件：ESCApe（采集、处理与报告）
• 扩展选项：用于 UPS 的 UV He‑discharge 灯（价带与功函数测量）