3轴定位系统 782462:002.26

线性半导体工业用于晶圆操作

在尽可能小的结构空间内实现产量最大化 这个高精度的定位系统是专门为EUV光刻技术的小型化和自动化而设计的，是一个补充性的偏振过滤器。它在大约120 x 180 x 31 mm的非常有限的空间内，最大限度地提高了曝光质量以及现有晶圆步进器的产量。为此，三个可独立定位的过滤器在光学系统的光束路径上移动。它可用于极端环境条件下的高分辨率工艺，如EUV和干燥以及无氧纯氮气氛。 优化极端环境下的精度 - 是自动EUV光刻技术中小型化的理想选择 - 在最小的空间（约120 x 180 x 31 mm）内最大限度地提高现有晶圆步进系统的产量和分辨率 - 在最极端的环境条件下，精度可达到1.5微米。EUV、干燥、无氧的纯氮气氛 - 免维护和灵活的24/7操作，超过1000个定位周期，分布在10年以上 可选择扩展。 - 不同的行程 - 适合应用的材料选择和真空润滑 - 为客户的具体应用提供个性化的解决方案 - 适用于洁净室ISO 14644-1的版本（根据要求可达到1级）。